烘可在热烘板或氮气烘箱中进行,本课题采用的热风烘箱为隽思氮气洁净烘箱​，由于在鼓风烘箱中对流烘烤将会使烘进行的更加均匀，所以在鼓风箱中烘的效果将会更理想。

烘是在涂胶结束后进行,它的作用有以下几个方面

驱赶胶中的溶剂

提高胶对衬底的黏附性

提高胶的抗腐蚀能力

优化胶的光学吸收特性

提高涂胶的均匀性

提高条宽控制能力

通过烘，基片上的光刻胶基本固化。

烘氮气烘箱，硬烘洁净烘箱性能：

洁净度：Class100;

温度：RT+15～200℃；
气体：N2

计时功能：0-99H99M99S

设备材质：内部SUS304不锈钢

工作尺寸（mm）：

450×450×450

500×500×550

（可定制）

网板：活动式2块

烘氮气烘箱，硬烘洁净烘箱适用性：

氮气烘箱也适用于IC封装、光刻胶固化、银胶固化、电子液晶显示、LCD、CMOS、MEMS、医药、实验室等生产及科研.

真空无氧固化炉，高温无氧烘箱技术参数
温度范围： RT ～300/450/550℃；
温度波动度：≤±1℃
升温速度：0-10℃/min；
降温方式：自然降温或风冷+水冷降温
氮气控制： 可调试流量计控制
氧含量检测：20～1000ppm
工作尺寸：W350×H350×D350,

高温无氧真空烘箱温控系统：
操作界面：人机界面+PLC，可一键运行，多个工艺编辑；
温度测量：K型热偶；
控制仪表：高精度温度控制器，PID调节，控制精度0.1℃，