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面板级封装的大面积基板上,气体均匀性是一道“面积题”

提供者:青岛芯笙微纳电子科技有限公司   发布时间:2026/11/11 9:14:52  阅读次数:19次  进入该公司店铺

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面板级封装(PLP)正在从概念走向产线。意法半导体在法国图尔的PLP试点生产线预计2026年第三季度投入运营,日月光在2026年5月宣布开发出310mm × 310mm面板级封装自动化产线,预计2027年上半年量产。PLP用矩形面板替代圆形晶圆作为加工载体,单次加工面积提升,单位成本随之下降。

面积放大之后,均匀性的逻辑变了

在圆形晶圆上,工艺腔体中的气体分布可以围绕中心轴对称来设计。矩形面板打破了这种对称性。更大的面板面积意味着气体从进气端到排气端的路径更长,停留时间的分布更难被“一刀切”地管理。PLP目前面临的一个核心工艺挑战是面板翘曲控制,而翘曲与热历史和气氛均匀性之间存在关联——基板不同区域经历的温度和气氛条件如果存在差异,应力分布的一致性就会受到影响。气体流量控制在这里的角色,不是简单地把气体送进腔体,而是参与塑造一个在数万平方毫米面积上相对均匀的气氛环境。

芯笙的位置

芯笙微纳的MFC产品在半导体和泛半导体气体输送场景中有配套基础。PLP对MFC的直接需求目前还处在早期阶段,但这个场景提出的问题——多区供气的流量分配、大面积腔体的气氛均匀性、以及与翘曲控制的间接关联——与芯笙在半导体刻蚀、沉积多路气体控制中处理过的协同逻辑有相通之处。对于PLP设备厂商来说,气体流量控制方案的价值,更多体现在它能不能在面板尺寸继续放大的过程中,维持气氛条件的可重复性。


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