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光刻工艺中HMDS烤箱的重要作用

提供者:上海隽思实验仪器有限公司   发布时间:2023/5/4 10:16:08  阅读次数:2980次  进入该公司店铺

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光刻工艺中HMDS烤箱的重要作用

在集成芯片生产流程中,包括提纯、制备、光刻、封装。其中关键的一环就是光刻。

而光刻技术就是指集成电路制造中利用光学、化学反应原理及化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。一般的光刻工艺要经过硅片表面的清洗烘干、涂底(用设备HMDS烤箱)、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、去除光刻胶等工序。

在涂胶工艺中,所用到的光刻胶绝大多数是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的话,势必会造成光刻胶和晶片的粘合性较差,甚至造成局部的间隙或气泡,涂胶厚度和均匀性都受到了影响,从而影响了光刻效果和显影。

通过HMDS烤箱将六甲基二硅氮烷(HMDS)涂到硅片表面后,通过加温可反应生成以硅氧烷为主题的化合物,这实际上是一种表面活性剂,它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起到耦合的作用,再者,在显影的过程中,由于它增强了光刻胶与基底的粘附力,从而有效地抑制刻蚀液进入掩模与基底的侧向刻蚀。

智能型HMDS烤箱(JS-HMDS90-AI)技术性能:

1.尺寸(深*宽*高)

内腔尺寸:450×450×450(mm)(可选其他)

2. 材质:内箱采用 316L 医用不锈钢

3.温度范围:RT+50-200℃

4.温度分辨率:0.1℃

5.温度波动度:≤±0.5

6 真空度:≤133pa(1torr)

7.电源及总功率:AC 220V±10% / 50HZ,总功率约 3.2KW

8.控制仪表:人机界面,一键运行

9.搁板层数:2 层

10.真空泵:无油涡旋真空泵

智能型HMDS烤箱(JS-HMDS90-AI)特点:

HMDS药液泄漏报警提示功能

HMDS低液位报警提示功能

工艺数据记录功能

药液管道预热功能

程序锁定保护等功能

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