光刻工艺中HMDS烤箱的重要作用

通过HMDS烤箱将六甲基二硅氮烷（HMDS）涂到硅片表面后，通过加温可反应生成以硅氧烷为主题的化合物，这实际上是一种表面活性剂，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起到耦合的作用，再者，在显影的过程中，由于它增强了光刻胶与基底的粘附力，从而有效地抑制刻蚀液进入掩模与基底的侧向刻蚀。

智能型HMDS烤箱（JS-HMDS90-AI）技术性能：

1.尺寸（深*宽*高）

内腔尺寸：450×450×450（mm）（可选其他）

2. 材质：内箱采用 316L 医用不锈钢

3.温度范围：RT+50-200℃

4.温度分辨率：0.1℃

5.温度波动度：≤±0.5

6 真空度：≤133pa（1torr）

7.电源及总功率：AC 220V±10% / 50HZ，总功率约 3.2KW

8.控制仪表：人机界面，一键运行

9.搁板层数：2 层

10.真空泵：无油涡旋真空泵

智能型HMDS烤箱（JS-HMDS90-AI）特点：

HMDS药液泄漏报警提示功能

HMDS低液位报警提示功能

工艺数据记录功能

药液管道预热功能

程序锁定保护等功能

原创作者：上海隽思实验仪器有限公司