提供者:北京彼奥德电子技术有限公司 发布时间:2014/6/4 17:07:10 阅读次数:3952次 进入该公司店铺
程序升温脱附技术虽不用复杂的 超真空技术,但存在着研究沾污表面的危险。例如,在洁净的Ag表面上,O2的脱附峰只有一个当表面被沾污后,却出现两个脱附峰。因此用程序升温技术研究催化剂表面时,必须保证表面的清洁,避免出现错误的结论。此外要避免脱附时再吸附现象的发生。一般来说,应用法,最好有其他方法加以佐证。
TPD技术是一种流动法,较适用于对实用催化剂的应用基础研究,对于纯理论性的基础研究工作尚存在着一定的不足,其局限性主要表现在以下几个方面;对一级反应动力学的研究非常困难;当产物比反应物更难以吸附在催化剂上时,反应物由于和产物的不断分离,从而抑制了逆反应的进行,使所得的实际转化率高于理论计算的转化率;加载气对反应有影响时,则所得结论的可信度下降;不能用于催化剂寿命的研究。
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