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TPD_程序升温脱附法研究催化剂表面性质

提供者:北京彼奥德电子技术有限公司   发布时间:2012/11/5 8:56:44  阅读次数:901次  进入该公司店铺

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TPD技术是一种研究催化剂表面性质及表面反应特性有效手段 。催化剂经预处理将表面吸附气体除去后,用一定的吸附质进行吸附,再脱去非化学吸附的部分,然后等速升温,使化学吸附物脱附。当化学吸附的吸附质被提供的热能所活化,足以克服逸出所需要超过的能垒时,就产生脱附。由于吸附质与吸附剂的不同,因此吸附质与表面不同中心的结合能不同。所以,热脱附实验的结果反映了在脱附发生时的温度和表面覆盖度下过程的动力学行为。


TPD曲线

TPD曲线的形状、大小及出现最高峰的温度Tm值均与催化剂的表面性质有关。通过对TPD曲线的分析以及数据处理,可求出反映催化剂表面性质的各种参数如脱附活化能Ed\\频率因子v\\脱附级数n等。吸附活化能小时,Ed\\近似等于等量吸附热,它是表征表面键能大小的参数;v正比于吸附熵变,是表征吸附分子可动性的参数,它可用以辨认分子在表面的吸附情况。而n反映的是吸附分子之间的相互作用程度。TPD广泛应用于氧化物催化剂,酸性催化剂、金属催化剂表面性质的研究。


TPD法可用于研究负载型金属催化剂中金属和载体之间的相互作用。例如Pt-AL2O3催化剂低温还原(还原温度≥500℃)时,既有低温吸附氢中心,也有高温吸附氢中心。随着还原温度的提高,低温吸附中心的密度减少,而高温吸附中心的密度增加。Pt-SiO2催化剂只有低温吸附氢中心,Pt-SiO2之间一般认为只有微弱的范德华作用力。可见低温吸附氢中心反应的是金属组分的特性,而高温吸附氢中心则是PT和SiO2之间相互作用所表现出来的特性。

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