1600℃双温区高温真空管式炉gsl-1600x-ⅱ每个加热区域长300mm，由30段智能温度调节仪进行控温，采用硅钼棒加热元件温度可达1600℃，采用硅碳棒加热元件温度可达1400℃，通过调节两个温区的控温程序使炉管内温度场形成一温度梯度。本机可用于cvd或pvd方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。控温仪表操作视频

1500℃真空立式淬火炉otf-1500x-80-vtq一款是立式可开启真空管式淬火炉，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，样品可从最高温度1500℃环境中快速落入冰水或冷油中，可用于研究材料相转变和微结构性能。

1200℃五温区开启式管式炉otf-1200x-v每个温区分别由独立的温控系统控制，通过调节各个温区的温度，可以在加热区内形成四段温度梯度，或形成较长的恒温区域。本机用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验或小批量生产，主要针对电子陶瓷的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（cvd）等工艺。具有控温精度高，保温效果好，温度范围大，温度均匀性高，温区多，可通气氛抽真空及安全可靠、操作简单等特点。

1200℃三温区开启式管式炉otf-1200x-ⅲ每个温区分别由独立的温控系统控制，具有控温精度高，保温效果好，温度范围大，温度均匀性高，温区多等特点。本机可通气氛抽真空，操作简单，安全可靠。