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燃烧炉产品及厂家
GSL-1700X-80VTQ1700℃立式淬火炉GSL-1700X-80VTQ
1700℃立式淬火炉gsl-1700x-80vtq采用直径80mm的氧化铝炉管、下置淬冷水箱结构,专为淬火样品能从高温状态进入冷水或油等淬冷介质中快速冷却而设计,以研究材料阶段性过渡和微观结构。
更新时间:
2025-12-17
OTF-1200X-4-VTQ4"真空立式淬火炉OTF-1200X-4-VTQ
"真空立式淬火炉otf-1200x-4-vtq是一款立式可开启真空管式淬火炉,配有一个密封的液体容器用于样品淬火,样品可从最高温度1200℃环境到冰水或冷油中,可用于研究材料相转变和微结构性能。
更新时间:
2025-12-17
RTP-1000-LV3F带3路浮子混气RTP管式炉RTP-1000-LV3F
带3路浮子混气rtp管式炉rtp-1000-lv3f是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达3")的退火而设计,配有3路流量计和机械泵。本机采用 9kw的红外灯进行加热,最快升温速度可达 100℃/s,配有rs485 接口,可以通
更新时间:
2025-12-17
OTF-1200X-4-RTP小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP
小型1000℃rtp炉otf-1200x-4-rtp 是一款精巧型快速热处理管式炉,配有4"石英管和真空法兰,是专为半导体或太阳能电池基片(最大3")的退火而设计。本机采用10kw红外灯管加热,最快升温速度为 50℃/s,设有30段温度控制,精度为±1℃。此外,通过rs485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。
更新时间:
2025-12-17
OTF-1200X-4-RTP- SL可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL
0x-4-rtp-sl是一种快速热处理炉,采用红外灯加热和移动炉体快速冷却,可获得最高升温速率为100°c/s 、降温速率为5°c/s。
更新时间:
2025-12-17
MSM20-8MSM20-8(非自耗式)微型金属熔炼吸铸炉
产品简介:msm20-8(非自耗式)微型金属熔炼吸铸炉是一款小型的电弧熔炼炉,可在不破坏气体保护气氛的条件下翻转合金锭进行多次熔炼,且可以同时制备多个样品(少于7个),是高等院校、科研院所制备
更新时间:
2025-12-17
OTF-1200X-60UV1100℃高压炉OTF-1200X-60UV
1100℃高压炉otf-1200x-hp-55是开启式高温高压管式炉,炉管采用 ss310s镍基合金钢制作而成,最高压力高达20mpa,最高温度可达1100℃,并可通入多种氧化或惰性保护气体,是用于高压制备新材料,以及作为小型热等静压处理合金样品的理想设备。
更新时间:
2025-12-17
OTF-1200X-II-HVHP-80800℃双温区高压炉OTF-1200X-II-HVHP-80
800℃双温区高压炉otf-1200x-ii-hvhp-80是高温高压管式炉,炉管采用 ss310s镍基合金钢制作而成,两端配有法兰和阀门,专为在105 psi高压下使用,可在通入氧化或惰性气体的气氛下,处理特殊的化合物。本机采用pid方式进行控
更新时间:
2025-12-17
OTF-1200X-HVHP-80800℃高压炉OTF-1200X-HVHP-80
800℃高压炉otf-1200x-hvhp-80是高温高压管式炉,炉管采用 ss310s镍基合金钢制作而成,两端配有法兰和阀门,专为在105 psi高压下使用,可在通入氧化或惰性气体的气氛下,处理特殊的化合物。
更新时间:
2025-12-17
OTF-1200X-4-NW生长纳米线CVD炉OTF-1200X-4-NW
生长纳米线cvd炉otf-1200x-4-nw是一种紧凑型cvd炉,专为生长各种纳米线而设计,基片最大3″。在法兰的左侧装有一个小加热器,可对输入的气体、液体、固体进行预加热后进入 cvd 炉进行纳米线的生长。其可滑动的样品架使操作更为简单。
更新时间:
2025-12-17
OTF-1200X-III-D5-4(石墨烯生长)1200℃双管三温区管式OTF-1200X-III-D5-4
200℃双管三温区管式炉(石墨烯生长)otf-1200x-iii-d5-4最高工作温度可以达到1200℃,专门针对于用cvd方法在金属箔上生长薄膜物质,如石墨烯、太阳能电池的电极材料和其他电池电极材料等。
更新时间:
2025-12-17
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