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小型等离子清洗机(电容式)
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价格:¥电议
更新日期:2026/5/11 14:15:23
生 产 地:中国大陆
产品型号:HITSemi-Plasma-C1
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详细内容
利用电场的能量来激发和维持等离子体。在平行电极板上施加高频的交流电压。强大的交变电场使反应气体中的自由电子加速,这些高能电子与气体分子发生碰撞,使其电离、分解,从而形成等离子体。
离子定向性强,能量高,对于去除顽固的污染物(如油脂、指纹)和进行表面蚀刻、粗化效果非常好。适用于平面基片的清洗。

主要特点
小型化,方便实验室操作和使用,大幅降低实验成本。
物理溅射能力强。适合处理顽固污染物。
技术参数
| 产品型号 | HITSemi-Plasma-C1 |
| 等离子源功率 | 300W(60%~100%连续可调) |
| 等离子源频率 | 40KHz/13.56MHz |
| 控制形式 | 半自动/全自动 |
| 清洗时间 | 1s ~9999s 可调 |
| 真空度 | <80Pa |
| 真空泵 | 抽气速率:2L/S(油雾过滤) |
| 内腔(圆形) | 尺寸:φ150mm × 280mm 材质:316不锈钢 |
| 有效处理空间 | 130mm × 245mm |
| 处理温度 | <60° |
| 极板布局 | 平行电极板:功率极板(1)+不锈钢托盘(1) |
| 工艺气体 | 2路(N2、Ar、O2、H2选配) |
| 控制系统 | PLC+触摸屏 |
设备工作条件
| 供电 | AC 220V(±10V)50/60Hz |
| 功率 | 1.5KW |
| 工作环境温度 | 10℃~40℃ |
| 工作环境湿度 | ≤50% |
关于我们
鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿、市场前沿和产业前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。

公司核心业务是微纳技术与gao/duan精密制造,具体应用领域包括半导体和泛半导体材料、工艺、装备的研发设计、生产制造、工艺技术服务及装备的升级改造,可为用户提供工艺研发和打样,可为生产企业提供生产型设备,可为科学研究提供科研设备。
公司人才团队知识结构完整,有工程师哈工大教授和博士,为核心的高水平材料研究和工艺研究团队,还有来自工业界的gao*ji装备设计师团队,他们具有30多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。
公司依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备xian*jing的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市,具备半导体和泛半导体装备的研发、生产、调试以及器件的中试、生产、销售的能力。

公司团队技术储备及创新能力
2024~2026
-与jun*gong和shang*shi*tou*bu*qi*ye*客户合作取得突破(X *guang*gan*shou*板及光电器件的薄膜生长)
-鹏城微纳技术(沈阳)有限公司子公司扩产
-TGV/TSV/TMV
-wei*guang*tan*测、yi*liao*ying*xiang、fu*he*ying*zhi*tu*层
-gao*xin*ji*shu企业
2023
-PSD方法外延GaN装备与工艺的技术攻关;
-科技型中小企业-入库编号202344030500018573;
-创新型中小企业;
-获50+项知识产权专利;
-企业信用评价AAA级信用企业;ISO三体系认证;
-子公司晶源半导体成立
2022
-子公司鹏城微纳成立;
-热丝CVD设备、高真空磁控溅射仪、电子束蒸镀机、分子束外延与磁控溅射联用设备多套出货
-获得ISO9001质量管理体系证书
2021
-鹏城半导体技术(深圳)有限公司成立
2019
-设计制造了大型热丝CVD金刚石薄膜的生产设备
2017
-优化Rheed设计,开始生产型MBE设计
-开始研发PSD方法外延GaN的工艺和装备
2015
-设计制造了金刚石涂层制备设备,制备了金刚石电极、微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜
2007
-设计超高温CVD 和MBE,用于4H晶型SiC外延生长
-设计制造了光学级金刚石生长设备(采用热激发技术和CVD技术)
2005
-设计制造了中国di*yi台完全自主知识产权的MBE(分子束外延设备),用于外延光电半导体材料
1998~2002
-设计了中试型的全自动化监控的MOCVD,用于外延硅基GaN
-设计制造了聚氨酯薄膜的卷绕式镀膜机

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