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C11011-01W 微米膜厚测量仪
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价格：￥电议
更新日期：2026/4/13 21:06:44
生 产 地：
产品型号：C11011-01W
商家名片
石*
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相关标签：C11011-01W,微米膜厚测量仪
详细内容
C11011-01W 微米膜厚测量仪
C11011-01W型光学微米膜厚测量仪利用激光相干度量学原理，测量速度达60Hz，适用于产品线上在线测量。此外，选配的映射系统可以测量指定样品的厚度分布。C11011-01W应用广泛，比如用于产品制造过程监控或质量控制。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 http://www.hamamatsu.com.cn/ 查看该产品更多详细信息！
特性
利用红外光度测定进行非透明样品测量
测量速度高达60 Hz
测量带图纹晶圆和带保护膜的晶圆
长工作距离
映射功能
可外部控制
参数
| 型号 | C11011-01W |
| 可测膜厚范围（玻璃） | 25 µm to 2900 µm*1 |
| 可测膜厚范围（硅） | 10 µm to 1200 µm*2 |
| 测量可重复性（硅） | 100 nm*3 |
| 测量准确度（硅） | < 500 µm: ±0.5 µm； > 500 µm: ±0.1 %*3 |
| 光源 | 红外LED（1300 nm） |
| 光斑尺寸 | φ60 µm*4 |
| 工作距离 | 155 mm*4 |
| 可测层数 | 一层（也可多层测量） |
| 分析 | 峰值探测 |
| 测量时间 | 22.2 ms/点*5 |
| 外部控制功能 | RS-232C / PIPE |
| 接口 | USB2.0 |
| 电源 | AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 50W |
*1：SiO2薄膜测量特性
*2：Si薄膜测量特性
*3：测量6 µm厚硅薄膜时的标准偏差
*4：可选配1000mm工作距离的模型C11011-01WL
*5：连续数据采集时间不包括分析时间
C11011-01W,微米膜厚测量仪
