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C12562 纳米膜厚测量仪系列

C12562 纳米膜厚测量仪系列

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更新日期:2026/4/13 21:06:44

生 产 地:

产品型号:C12562

简单介绍:C12562型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。光学膜厚测量仪系列可以测量薄至10nm的薄膜,而可测范围达到10nm到1100μm,因此可用来测量多种目标。

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详细内容

C12562 纳米膜厚测量仪系列


C12562型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。光学膜厚测量仪系列可以测量薄至10nm的薄膜,而可测范围达到10nm到1100µm,因此可用来测量多种目标。此外,该测量仪可达到100Hz的高速测量,因此可进行快速移动的产品线进行测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 http://www.hamamatsu.com.cn/ 查看该产品更多详细信息!


特性

  • 可测量10nm薄膜

  • 缩短测量周期(频率高达100Hz)

  • 增强型外部触发(适合高速测量)

  • 涵盖宽波长范围(400 nm到1100 nm)

  • 软件增加了简化测量功能

  • 可进行双面分析

  • 不整平薄膜精确测量

  • 分析光学常数(n,k)

  • 可外部控制

参数

型号C12562-02
可测膜厚范围(玻璃)10 nm to 100 µm*1
测量可重复性(玻璃)0.02 nm*2 *3
测量准确度(玻璃)±0.4 %*3 *4
光源卤素灯
测量波长400 nm to 1100 nm
光斑尺寸Approx. φ1 mm*3
工作距离10 mm*3
可测层数最多10层
分析FFT 分析,拟合分析,光学常数分析
测量时间3 ms/点*5
光纤接口形状FC
外部控制功能RS-232C, Ethernet
电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz
功耗80W

*1:以 SiO2折射率1.5来转换

*2:测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差

*3:取决于所使用的光学系统或物镜的放大率

*4:可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中

*5:连续数据采集时间不包括分析时间



C12562,纳米膜厚测量仪系列

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