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天津中环电炉股份有限公司

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  • 1200℃单/双温区CVD系统
    1200℃单/双温区CVD系统
    型号:CVD-12I-3Z/G   参考价:¥咨询
    ccvd管式炉由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,cvd管式炉除了主要应用在碳纳米材料制备行业外,现在cvd管式炉正在使用在许多行..
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  •   CVD系统
    CVD系统
    型号:   参考价:¥咨询
    cvd系统适用领域: cvd系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,除了主要应用在碳纳米材料制备行业外,现在正在使用在许多..
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  • CVD系统
    CVD系统
    型号:SK   参考价:¥咨询
    cvd系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产,cvd系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外,现在正在使用在许多行业,包括纳..
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  •   1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统
    1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统
    型号:   参考价:¥咨询
    产品用途:此款cvd系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和冷却。
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  •   1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统
    1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统
    型号:   参考价:¥咨询
    产品用途:此款cvd系统适用于cvd工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、zno纳米结构的可控生长、陶瓷电容(mlcc)气氛烧结真空淬火退火,快速降温等工艺实验。
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  • 1200℃双温区CVD系统
    1200℃双温区CVD系统
    型号:   参考价:¥咨询
    此款cvd生长系统适用于cvd工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、zno纳米结构的可控生长、陶瓷电容(mlcc)气氛烧结等实验。产品组成:此款cvd系统配置:1.1200度开启式真空管..
    所在地:中国大陆    
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