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天津中环电炉股份有限公司

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  • 1200℃双温区CVD系统
    1200℃双温区CVD系统
    型号：   参考价：￥咨询
    此款cvd生长系统适用于cvd工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、zno纳米结构的可控生长、陶瓷电容（mlcc）气氛烧结等实验。产品组成：此款cvd系统配置：1.1200度开启式真空管..
    所在地：中国大陆    
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热分析系列
马弗炉、电阻炉、实验炉
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真空钎焊炉
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排胶预烧一体炉
钟罩炉
CVD/PECVD系列
电热真空/鼓风干燥箱系列
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