
高纯石英材料是半导体、光通信、激光、光伏等产业的核心基础材料,其制备高度依赖氢氧火焰熔融、气相沉积(CVD)、原料提纯等工序,工艺气体配比与流量稳定性直接决定石英坯体的气泡、羟基含量、均匀度与成品良率。
传统热式质量流量计在含硅气源工况下易出现结晶附着、零点漂移、精度衰减等问题,难以长期稳定运行。易度层流压差式质量流量计(MFM/MFC)依托层流压差测量原理,针对石英生产含硅、易析出的工艺环境优化流道结构,实现氢气、氧气、四氯化硅、氩气等多组分气体高精度、高重复性流量测控,为高纯石英、光纤预制棒、半导体石英构件的量产提供可靠流体测控方案。
一、石英材料生产工艺对气体流量控制的要求
高纯石英材料主流制备路线分为气相沉积合成法(CVD/MCVD)与石英粉熔融法两大类。CVD合成石英工序中,四氯化硅作为硅源,在氢氧火焰高温下水解生成二氧化硅微粒,逐层沉积形成石英坯体;氢氧混合喷灯同时提供高温热源,氢气、氧气配比直接决定火焰温度、氧化还原氛围,进而影响SiO₂沉积速率、羟基(OH⁻)含量与内部气泡缺陷。光纤预制棒MCVD工艺中,还需氯气、氦气、氩气参与管内掺杂、脱水与吹扫,微量流量波动即会造成折射率分布不均匀,直接报废预制棒。
石英粉熔融、退火、后处理工序同样需要保护气、助燃气体调控。整体来看,石英生产对流量测控设备提出三点硬性要求:
1. 配比精度高:多通道气体同步控制,微小流量与中大流量区间均需稳定,保证氢氧燃比、硅源载气比例恒定;
2. 抗污染能力强:四氯化硅水解易产生二氧化硅微小颗粒,传统热式流量计毛细管易堵塞、结晶附着,导致零点漂移与精度衰减;
3. 长期稳定性好:石英生产连续运行周期长,设备需具备低漂移、易维护、长校准周期特性。
二、易度层流压差式质量流量计技术原理与适配性
易度MFM/MFC基于层流压差测量原理:气体流经特制层流元件形成稳定层流,通过测量层流元件两端压差与温度、压力参数,结合气体物性换算获得质量流量。相较于热式原理,该技术路线在石英工况下具备显著适配优势:
- 流道无毛细管节流结构:主流道直通设计,含硅气体析出物不易沉积堵塞,抗结晶附着能力强;
- 多组分气体标定适配:针对H₂、O₂、SiCl₄、Ar、Cl₂、He等气体分别标定,支持多气体切换与混合配比控制;
- 高重复性与低零点漂移:层流元件长期稳定性好,配合温度压力实时补偿,微小流量段仍保持高精度;
- 响应速度快:适用于CVD沉积过程中硅源载气与氢氧燃气的动态配比调节。
三、典型应用场景与落地价值
在CVD合成石英工序中,易度MFC对氢气、氧气、四氯化硅载气实施多通道同步测控,保证氢氧燃比恒定与硅源输送稳定,减少石英坯体气泡与羟基缺陷,提升沉积均匀性与良率。在光纤预制棒MCVD工艺中,对氯气、氦气、氩气等掺杂与吹扫气体进行调控,保障折射率分布一致性。在石英粉熔融与退火工序中,对保护气、助燃气体实现稳定控制,降低能耗与废品率。
现场落地表明,易度层流压差式质量流量计在含硅气源工况下长期运行漂移小、维护周期长,有效替代传统热式流量计,为高纯石英材料量产提供可靠流体测控支撑。
来源:陕西易度智能科技有限公司
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