目前光刻涂胶工艺中,绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。在实际使用过程中,疏水基虽然可以很好地与光刻胶结合,但是由于硅片和光刻胶之间黏性的增强,对没有预湿功能的轨道来说,会在涂胶过程中出现涂胶不全的现象,需要增加胶量来克服。而光刻胶的成本昂贵,如何达到工艺稳定和成本降低的平衡是一个重要的问题。
HMDS预处理系统,HMDS烤箱技术参数:
电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%
输入功率:2400W
控温范围:室温+10℃-250℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:±0.5℃
达到真空度:133Pa
容积:90L
工作室尺寸(mm):450*450*450
载物托架:2块
时间单位:min
HMDS预处理系统,HMDS烤箱统特点:
1、 采用医用级不锈钢316L材质制造,内胆为不锈钢316L;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
2、 箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。
3、 微电脑智能控温仪,具有设定,测定温度双数字显示和PID自整定功能,控温精确,可靠。
4、 智能化触摸屏控制系统配套进口PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序,温度,真空度及每一程序时间。
5、 HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。
6、 整个系统采用优质材料制造,无发尘材料,适用100 级光刻间净化环境。
关键词:
HMDS预处理系统 不锈钢HMDS烤箱
上海隽思实验仪器有限公司主要生产HMDS预处理系统,HMDS烤箱,洁净烤箱,无氧烤箱,无尘无氧固化烤箱,LED烤箱,UV固化烤箱,隧道烘箱,黑蒜发酵设备、橡塑检测设备、电线电缆检测设备、半导体设备及实验室仪器的高新技术型企业,具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业,建筑,节能、航空航天等行业;多年来,公司以“真挚的服务、的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售、售中、售后服务。赢得了国内外客户的一致好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善!能够完成仪器仪表工程产品配套和维修服务!
主要业务项目有HMDS预处理系统,HMDS烘箱,无氧化烘箱,真空无氧烤箱,氮气烘箱,洁净烤箱,无氧烤箱,无尘无氧固化烤箱,高精度加热台,精密恒温热板,LED烤箱,PI/CPI/BCB/PBO/LCP固化烤箱,半导体工艺设备。黑蒜加工设备,黑蒜发酵设备,超低温试验箱,超低温冲击试验箱,-150度高低温试验箱,恒温恒湿试验箱,真空烘箱,热风真空烤箱,环境检测仪器,实验室研究仪器,橡塑检测仪器,电缆检测仪器设备等。