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JS-HMDS专用烘箱,HMDS真空烤箱

产品属性本产品采购属于商业贸易行为

企业档案

上海隽思实验仪器有限公司

11 营业执照已上传

企业类型:生产商

公司地址:上海奉贤柘林工业区3213号

主营产品:HMDS预处理系统,智能HMDS烘箱,无氧化烘箱,真空无氧烤箱,氮气烘箱,洁净烤箱,无氧烤箱,无尘无氧固化烤箱,高精度加热台,精密恒温热板,烤胶台,LED烤箱,PI/CPI/BCB/PBO/LCP固化烤箱,氮气柜,半导体工艺设备。黑蒜加工设备,黑蒜发酵设备,超低温试验箱,超低温冲击试验箱,-150度高低温试验箱,恒温恒湿试验箱,真空烘箱,热风真空烤箱,环境检测仪器,实验室研究仪器,橡塑检测仪器,电缆检测仪器设备等。

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产品简介

JS-HMDS专用烘箱,HMDS真空烤箱有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业。在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要.将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

详细内容

公司简介

 JS-HMDS专用烘箱的原理:      

    HMDS预处理系统通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

JS-HMDS专用烘箱,HMDS真空烤箱的必要性:

      有可自动吸取添加HMDS功能智能型的程式设定,一键完成作业

 

    在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

JS-HMDS专用烘箱技术参数:

电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率:2000W

控温范围:RT+20℃-200℃

温度分辨率:0.1℃

温度波动度:±0.5℃

达到真空度:133Pa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450(可定做)


关键词:JS-HMDS专用烘箱  HMDS真空烤箱  

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