JS-HMDS专用烘箱,HMDS真空烤箱有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业。在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要.将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
JS-HMDS专用烘箱的原理: HMDS预处理系统通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。
JS-HMDS专用烘箱,HMDS真空烤箱的必要性:
有可自动吸取添加HMDS功能,智能型的程式设定,一键完成作业。
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
JS-HMDS专用烘箱技术参数:
电源电压:AC 220V±10%/50Hz±2%
输入功率:2000W
控温范围:RT+20℃-200℃
温度分辨率:0.1℃
温度波动度:±0.5℃
达到真空度:133Pa(1torr)
工作室尺寸(mm):450*450*450(可定做)
关键词:
JS-HMDS专用烘箱 HMDS真空烤箱
上海隽思实验仪器有限公司主要生产HMDS预处理系统,HMDS烤箱,洁净烤箱,无氧烤箱,无尘无氧固化烤箱,LED烤箱,UV固化烤箱,隧道烘箱,黑蒜发酵设备、橡塑检测设备、电线电缆检测设备、半导体设备及实验室仪器的高新技术型企业,具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业,建筑,节能、航空航天等行业;多年来,公司以“真挚的服务、优秀的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售、售中、售后服务。赢得了国内外客户的一致好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善!能够完成仪器仪表工程产品配套和维修服务!
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