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德国耶拿ZEEnit 700P火焰石墨炉原子吸收光谱仪 (2022/2/14)
简介：技术参数：1.光度计：高光通量的单光束/双光束自动切换技术；2.单色器：czemyturner单色器，1800条刻线/mm；3.灯座：全自动8灯座，自动准直；4.背景校正：电子调谐氘空心阴极灯和三磁场塞曼效应双扣背景；5.磁场强度:0.1-1.0t可调，可在2-磁场塞曼和3-磁场塞曼模式间切换；6.石墨炉：横向加热石墨炉，室温-3000度控温，加热速度最高3000度/秒；7.
日立ZA3000系列原子吸收分光光度计 (2022/2/14)
简介：日立偏振塞曼原子吸收分光光度计,创新永无止境！za3000系列是一款新型原子吸收分光光度计，在确保基本性能（例如：高精度和高灵敏度）的提下，采用其他原子吸收分光光度计无法实现的技术，提升其性能和可靠性。特点(1)基本性能提升石墨炉分析获得更高的精度。用石墨管实现更高精度的双进样功能。待机中可自动关闭空心阴灯,降低能耗，实现节能。(2)新增功能在石墨炉分析中引入暴沸自动检测功能。本功能可对试样
LUMEX石墨炉原子吸收MGA-1000 (2022/2/14)
简介：mga系列石墨炉原子吸收经过二十年多年的发展，具备成熟的仪器方法和配置，独特的优势特点受到广大用户的好评。
原子吸收分光光度计AA-7000 (2022/2/14)
简介：aa-7000是岛津研发的一款高性能的火焰石墨炉一体机原子吸收分光光度计。双原子化器自动切换。
欧罗拉火焰石墨炉原子吸收光谱仪1200 plus (2022/2/14)
简介：欧罗拉致力于为各种研究领域的科学家提供自动化液体处理系统，包括：医药、生物技术、农业、食品科学和法医。versa系列作为液体处理系统，可以提高处理效率和数据质量，降低重复烦琐工作带来的不稳定性和减少试剂成本。
布鲁克VERTEX 70v高端研究级红外光谱仪 (2022/2/14)
简介：vertex70v光谱仪采用rocksolid™永久准直高性能干涉仪，能满足从常规分析测量到高端科研领域的各种应用需求。采用ultrascan™真正准直专利干涉仪的vertex80和vertex80v是针对业内最前沿的科研应用设计的，它具备极高的光谱分辨率、能实现目前业内最高水平的快速扫描和步进扫描测量，能在最广的光谱范围内提供卓越的性能。vertex70v及vert
赛默飞 Nicolet iS50 傅立叶变换红外光谱仪 (2022/2/14)
简介：thermoscientificnicoletis50配有专业化的附件和集成的分析软件，能够提供一个真正一体化的材料分析平台,帮助实验室工作人员以前所未有的轻松方式来应对在分析领域所遇到的挑战。
赛默飞iS5傅里叶变换红外光谱仪 (2022/2/14)
简介：thermoscientificnicoletis5傅立叶变换红外光谱仪性能优异，适合于产品可靠性测试、质量控制、材料鉴定等分析工作。
日立UH4150紫外可见近红外分光光度计 (2022/2/14)
简介：固体分析分光光度计专家u-4100，实现了进一步的技术提高,uh4150问世！现在，uh4150型分光光度计已经面世，秉承了u-4100的高度可靠性。u-4100已累计发售1,500*1多台。特点切换检测器波长时会产生小的信号差异,即使这样uh4150也可实现高精度的测定。安装在积分球上的多个检测器可在紫外-可见-近红外的波长范围内进行测定。
布鲁克 EDS能谱仪SEM TEM Quantax XFlash系列 (2022/2/14)
简介：适合不同电子显微镜极靴类型的的eds细管径设计和优化的eds，几何构型确保了最优的信号采集角和检出角全面的k、l、m和n线系原子数据库，完美匹配低电压分析可定制无窗探测器进一步提高低能端的检测性能强大的混合脉冲处理器，可输出计数率为600kcps易用而强大的esprit软件。
BATOP太赫兹时域光谱仪THz-TDS1008 (2022/2/14)
简介：thz-tds太赫兹时域光谱仪背景知识基于超快激光的thz脉冲产生与探测技术发展起来的太赫兹时域光谱仪（terahertztimedomainspectroscopy,thz-tds）技术。
Ted Pella 108Auto 108镀膜仪 (2022/2/14)
简介：技术参数：l自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和佳的导电喷镀效果。l通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。
徕卡 EM ACE600 高真空镀膜机 (2022/2/14)
简介：leicaemace600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的fe-sem和tem应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于高分辨率分析。
电子束蒸发镀膜机 (E-beam Evaporator) (2022/2/14)
简介：电子束蒸发系统是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术；它是在高真空状态下由电子束加热坩埚中的金属，使其熔融后蒸发到所需基片上形成金属膜。
Labsys 同步热分析仪Evo STA (2022/2/14)
简介：labsysevolution是法国塞塔拉姆公司推出的新一代综合同步热分析系统。
理学 同步热分析-热重差热仪Thermo plus EVO2 STA8122 (2022/2/14)
简介：tg-dta可搭载样品观察型电炉，在通过显微相机观察升温过程中样品变化的同时，可进行高达1,000℃的测量。
SETSYS STA超高温同步热分析 (2022/2/14)
简介：setsysevolution同步热分析仪sta是setaram热分析的旗舰产品！系统高度模块化，可扩展性极强，满足各种苛刻条件下的测试需要，如：100%腐蚀性气氛，氧化/还原性气氛，及水蒸气气氛工作条件。系统采用独特的上天平、悬挂式载样设计，单一石墨炉体全程快速升温，装配专业热分析光电天平，传感器采用即插即用式接口，加热炉配备水冷系统。
岛津SPM-8100FM 型高分辨原子力显微镜 (2022/2/14)
简介：津高分辨率原子力显微镜spm-8100fm使用调频模式，极大提高了信号的灵敏度，是第一款可以在大气环境下获得与真空环境中同样超高分辨率表面观察图像的产品，无论样品种类（薄膜、晶体、半导体、有机材料），还是不同环境（大气环境及溶液环境）。并且首次观察到固体和液体临界面（固液界面）的水化、溶剂化现象的图像，因此实现了对固液界面结构的测量分析。
岛津Kratos X射线光电子能谱仪AXIS SUPRA+ (2022/2/14)
简介：岛津/kratos公司的axissupra+作为高端光电子能谱仪传承了上一代产品高度智能化的优点，将采谱、成像功能与自动化高度相融合，保证了高样品吞吐量和易用性，为用户提供了全新无人值守自动化体验。同时axissupra+对产品硬件进行了相应的改进和扩展，一方面能够为用户提供仪器更优异的性能，另一方面也为用户提供了可选的多种拓展技术。
岛津光电发射光谱仪PDA-8000 (2022/2/14)
简介：pda-8000是岛津公司2010年推出的最新一款光电发射光谱仪，集合了岛津光电发射光谱仪之精华，突出了高灵敏度、高稳定性的特点，尤其在高纯有色金属、钢铁中酸溶铝、夹杂物方面的分析有着独特的技术。性能特点：1）高分辨率分光器最新设计的1米光栅分光室，可以有效减少元素间的分光干扰。
Allresist 光刻胶 AR系列 (2022/2/14)
简介：刻胶（resist）概述光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(ic)，封装(packaging)，微机电系统(mems)，光电子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板显示器(led,lcd,oled)，太阳能
西安新敏电子WR系列隔爆型、本安型热电偶@台风资讯 (2022/2/14)
简介：在化工厂，生产现场常伴着各种易燃，易爆等化学气体、蒸汽，如果使用普通的热电偶非常不安全，易引起环境气体爆炸，因此，在这些场合必须使用隔爆热电偶作温度传感器，隔爆型热电偶产品适用在diibt4~diict6温度组别区间内具有爆炸性气体危险的场所内。
Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4600 (Atlas 46) (2022/2/14)
简介：特点：•紫外负胶（厚胶），适用于liga及mems应用•涂胶厚度10μm@1000rpm，可提供更高厚度（200μm）•sxar-n4600-10:结构稳定性好、重复性好，厚度可达几百微米，适用于永久保留胶体结构的应用•sxar-n4650-10:容易去胶，适合于电铸工艺
电子束光刻胶 AR-PC 5090.02, 5091.02（导电胶） (2022/2/14)
简介：特点：•用于消除电子束曝光、sem成像、fib等工艺中的荷电效应•通过旋涂的方式涂胶，操作简单•涂胶厚度：40nm@4000rpm•电子束曝光后可溶于水，非常容易去除，且不损伤衬底材料•对紫外光、电子束不敏感，无需黄光室5090.02，适于pmma、csar62、hsq等。
固定式扬尘噪声在线监测系统 产业园区PM10颗粒物监测设备 (2022/2/14)
简介：固定式扬尘噪声在线监测系统 产业园区pm10颗粒物监测设备监测终端系统系统集成了总悬浮颗粒物、pm10、pm2.5、温度、湿度、风向和风速等多个环境参数，扬尘，24小时在线连续监测，全天候提供工地的空气质量数据，超过报警值时还能自动启动监控设备，具有多参数、实时性、智能化等特性；
Allresist 紫外光刻胶 AR-N 4400 (2022/2/14)
简介：特点：•用于耐刻蚀工艺、电镀、liga、mems等•感光波段：broadbanduv、i-line(365nm)g-line(436nm)、e-beam、x-ray、synchrotron•涂胶厚度从几微米到上百微米不等•覆盖能力强，分辨率高，图形边缘结构陡直•化学放大胶，具有非常高的灵敏度•可得到undercut结构，用于lift-off工艺•可替代su8胶。
Allresist 电子束光刻胶 AR-N7700 (2022/2/14)
简介：特点：•用于高灵敏度电子束曝光、混合曝光等•感光波段：e-beam、deepuv(248nm)•紫外曝光波段：负胶：248nm~265nm&290nm~330nm•化学放大胶，高灵敏度•良好的耐干法刻蚀能力。
Allresist 特殊功能光刻胶 SX AR-PC 5000/41 (2022/2/14)
简介：点：?耐酸碱保护胶?不含光敏物质，无需黄光室?在40%koh或50%hf酸中可长时间稳定?通过双层工艺可实现正性(ar-p3250)或负性(ar-n4400-05/10)光刻工艺旋涂曲线。
德国分子束外延 Laser MBE (2022/2/14)
简介：lasermbelasermbe特点模块化概念，lasermbe可以轻松升级到中央传输模块或其他模块uhvpld主腔室、利用load-lock实现衬底和靶材的uhv传输先进的工艺自动化功能，可实现超晶格生长温度测量准确的耐氧衬底加热器，最高1000℃，也可以选配激光加热靶台可以屏蔽交叉污染，传输整个carrousel而非单个靶材真空腔室利于系统升级。
美国Novascan 紫外臭氧清洗机PSD系列 (2022/2/14)
简介：psd-uv系列psd系列产品是数字控制的台式清洗设备，可以提供44英寸至1216英寸的清洗尺寸。设备配备一个带反射罩的高强度uv格栅灯盘,和可调节高度的样品台，用于优化样品位置和清洗效果。
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