摘要：

光学镀膜前基材表面残留油污、指纹、颗粒污垢，会破坏膜层均匀性与附着力。邦普化学AR-25耐碱表面活性剂可在25%浓度高碱体系中稳定作用，兼具低泡特性与去油能力，可快速渗入剥离指纹油污；FSJ-180S分散剂可将剥离后的颗粒污垢稳定悬浮于清洗液，避免颗粒二次沉积回玻璃表面。

关键词

光学玻璃镀膜前清洗；指纹清洗；耐高碱低泡表活活性剂；FSJ-180S分散剂

光学镀膜工艺对基材表面洁净度要求严格，残留的油污、指纹、颗粒污垢会影响膜层的均匀性与附着力。因此，针对光学玻璃表面的污垢，需采用针对性的原料搭配，以实现对多种污垢的清除，从而保障镀膜工艺的顺利实施。

邦普化学AR-25非离子表面活性剂能耐25%的NaOH，适用于高碱清洗体系，同时具备低泡特性与强去油能力，可有效去除加工过程中残留的切削液、抛光液等有机污渍。其良好的润湿性能能快速渗入污垢与玻璃界面，提升体系对有机污染物的渗透与剥离效率，进一步强化对指纹等顽固污迹的清洁效果，确保玻璃表面满足镀膜所要求的洁净标准。

颗粒污垢的残留与二次沉积是影响镀膜质量的潜在风险，FSJ - 180S分散剂凭借其良好的分散性能，能够将玻璃表面的颗粒污垢稳定地分散在清洗液中，防止颗粒再次附着于玻璃表面，确保玻璃表面的微观洁净度，为后续的镀膜工序提供理想的基底条件。