升温均衡、精度更高、控制效果更佳

温度均一化控制是通过对多个温区的升温速度的控制，从而避免温度的超调和波动，可应用于锂电池真空烤箱、晶圆加工、光伏烧结炉、光伏烘干炉、注塑成型、压缩成型、挤出成型、玻璃热弯等行业。

行业背景

温度作为生产工艺中的重要指标，若升温速度不一致，将直接导致温度出现超调和波动，从而影响到产品的加工工艺，导致良品率下降。

温度均一化控制是通过对多个温区的升温速度的控制，从而避免温度的超调和波动，可应用于锂电池真空烤箱、晶圆加工、光伏烧结炉、光伏烘干炉、注塑成型、压缩成型、挤出成型、玻璃热弯等行业。

系统原理

温度均一化控制技术通过对多个温区的升温速度进行控制，有效抑制相邻通道间的相互干扰，同时能够保证整个加热过程中，各温区间的温差保持不变，实现对被控对象的均匀加热，达到提高产品的加工质量、降低能耗的效果。

控制方案

温控系统一温度均一化解决方案共分为两部分，包括有均一化解耦与优化部分（工艺层）、PID控制部分（控制层）。PID控制部分轻松保证加工速度；均一化解耦与优化部分可确保多温区耦合作用下，依旧实现包含过渡响应在内的温区耦合均一性。

整个解决方案采取模块化编程，将均一化工艺层与PID控制层进行模块化，可将工艺层灵活搭配信捷PID指令，满足不同场景的客户需求；整个过程调试时间短，仅需简单设定即可实现均一化参数，轻松解决加热不均匀问题，实现每个温区升温速度的统一。

方案优势

升温均衡

升温均衡，对多个温区进行同步控制，实现不同温区的均匀加热

抑制温差

抑制温差，不同温区之间的差值是传统PID方案的1/5

低超调量

低超调量，不同温区同时到达温度目标值，超调量更小；

低稳态误差

低稳态误差，在恒温阶段的温度波动是传统PID方案的1/5，控制效果更佳

高精度温控

高精度温控，采集精度：0.3%，采集分辨率：0.01℃

调试更便捷

易调试，采用模块化封装的指令，配合专用调试软件，调试更加便捷

系统拓扑

股票代码 60341655.98-0.44-0.78%