随着 2025 年国家自然科学基金原创探索计划项目申请指南的发布，科研界再次迎来了一波新的机遇与挑战！面对这些机遇，除了创新的学术思想，选择合适的工具更您助您掌握通向成功的钥匙。

✦ 复纳科技六大明星产品：

• 飞纳台式扫描电镜

• Technoorg Linda 制样设备离子研磨仪

• NEOSCAN 高分辨台式显微CT

• DENSsolutions 原位透射样品杆

• Forge Nano 粉末原子层沉积系统

• VSParticle 纳米气溶胶沉积系统

这些仪器在 2024 年创造了多个里程碑时刻，为科研和工业研发提供了微观表征与分析工具，帮助您更加深入地探索材料微观的奥秘，加速科学发现和技术创新的步伐。

如何在 2025 年的科研征程中占先机呢？复纳科技的六大仪器产品或许能为您提供答案。我们特别推出了产品选型指南，帮助您深入了解这些仪器产品如何助力科研人员实现从无到有的引性原创成果，为科研之旅保驾护航。

PHENOM 飞纳台式扫描电镜

在当科学研究和工业应用中，扫描电镜显微镜与能谱仪已成为材料实验室不可或缺的表征工具。荷兰飞纳台式扫描电镜（Phenom）以其沿技术和用户友好的设计，被 2000+ 用户，研究域涉及金属及合金、电池、地质、考古、高分子、静电纺丝、陶瓷、复合材料、生物医学和微生物等，成为科研和工业研发材料微观表征与分析的。

飞纳电镜产品线有：台式肖特基热场发射扫描电镜、CeB6 灯丝 XL 系列智能化台式扫描电镜、CeB6 灯丝 P系列高性价比台式扫描电镜，ParticleX 系列全自动颗粒和异物检测扫描电镜，DiatomAI 全自动硅藻检测系统（电镜法）。

飞纳台式扫描电镜

• 相较传统电镜，成像速度提升 10 倍：15s 抽真空，30s 成像

• 采用超长寿命的 CeB6 灯丝，平均 3 年以上更换灯丝

• 不挑安装环境，防震防磁，放置高楼层也无需担心

• 原厂集成能谱 EDS，一分钟给出 SEM 和元素分析 2 个结果

• 让精密仪器无后顾之忧，全球 5000+ 用户选择

• “老”的电镜，也是“新”的电镜!

• 自动化扫描电镜，让测试效率翻倍

• 稳定的台式场发射扫描电镜

Phenom 飞纳电镜型号推荐

2024年，飞纳电镜还推出一系列新技术－－ChemiSEM 彩色成像软件，ChemiPhase 物相分析软件、Phenom MAPS 大面积能谱拼图软件等技术，不仅打破大家对于扫描电镜图片是黑白的传统认知，而且将扫描电镜成像分析带入一个高度。此外，Phenom AFM-SEM 原子力扫描电镜一体机，可以实现在同一系统中对样品进行多模态（SEM 及 AFM 形貌、元素、机械、电学、磁学）的关联分析。

2025 年，为您的材料实验室增购飞纳台式扫描电镜，揭开材料微观的奥秘，加速科学发现和技术创新的步伐。

Technoorg Linda 离子束制样设备

Technoorg Linda 提供业的样品制备解决方案。 产品通过全球超高能氩离子枪和低能氩离子枪，对样品进行无损研磨，精细加工以及终精修。具体包括SEM样品制备（SEMPrep SMART）、FIB离子精修（Gentle Mill）、TEM 样品制备离子减薄仪（Unimill）以及 GIB 精修离子束系统等产品。Technoorg Linda 荣获 2024 年 Red Dot Concept Award（红点奖）工业设备类别奖项。这些产品与所有品牌的电子显微镜兼容，涵盖从机械样品制备到离子研磨和终精修的整个减薄过程。适用于材料科学、生物研究、地质学、半导体和光学等多个域。

型号推荐——Technoorg Linda 离子束制样设备

SMART 离子研磨仪

用于SEM/EBSD样品制备

• 样品表面抛光/截面切削

• 氩离子束无应力处理样品

• 定位准确：可实现 ± 1微米

• 离子枪能量：0-16 KV

• 超大样品腔室：容纳直径50mm样品

• 制冷设计：液氮 LN2 制冷

• 可选配真空转移功能

Gentle Mill 离子精修仪

用于FIB样品处理

Gentle Mill 离子精修仪产品采用氩离子束，为终抛光、精修和改善 FIB 处理后的样品而设计。Gentle Mill 型号非常适合要求样品无加工痕迹、表面几乎没有任何损坏的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用户。其配备了利设计的低能氩离子枪，离子束能量低可达 100eV，可把非晶层厚度精修到 1nm 以下，获得样品的真实信息。

UniMill 离子减薄仪

用于 TEM/XTEM 样品制备

Unimill 离子减薄仪为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM / XTEM 样品而设计。 即可以使用全球超高能离子枪进行快速研磨，也可以使用用的低能离子枪进行终抛光和精修处理。

GIB 精修离子束系统

可集成于FIB内进行样品处理

精修离子束系统（GIB）适用于表面减薄、其他表面处理后的后处理、清洁以及去除无定形和氧化物表面层。当低能氩离子枪集成到扫描电镜中时，其作用尤为明显。有了集成离子枪，就可以在研究之对样品进行精修。实现高质量样品的另一个重要应用是在双束 SEM / FIB 系统中进行 FIB 样品制备后，对 TEM 样品进行终抛光和温和的表面清洁。

Neoscan X射线显微CT

NEOSCAN 台式显微 CT 采用 X 射线成像技术，结合精密的机械系统和图像重建算法，能够非破坏性地获取样品的内部结构信息。小体素尺寸可达 40nm，用台式技术重新定义纳米CT！还可选配集成 XRF 系统，轻松进行化学成分分析，钾（K）以上元素可分辨！在骨科、生物、农业、3D打印、制药、考古、材料科学等行业都有着广泛应用！相较于传统的大型 CT 设备，Neoscan 台式显微 CT 更加紧凑便携，适用于实验室和研究机构的日常使用。这种新颖的技术和表征手段在科研和工业界中独树一帜，为您寻求突破传统研究方法限制开辟了新的视野。

Neoscan 显微CT

• 开创性高分辨显微CT，重新定义台式技术！

• 小体素尺寸可达 40nm

• 集成 XRF系统，可进行化学成分分析

• 钾（K）以上元素可分辨

• 样品尺寸可达 100mm* 400 mm

DENSsolutions TEM 原位实验样品杆

传统透射电子显微镜 (TEM) 主要用于成像材料结构，近年来球差等技术使其达到原子分辨率。然而，它们无法模拟真实环境（加热、气体、液体等），限制了应用价值。DENSsolutions 的原位透射电镜技术突破了这一瓶颈！利用微机电系统 (MEMS) 技术，可以为原位 TEM 样品施加外界刺激，捕捉 TEM 样品在真实环境下的动态现象。

目，DENSsolutions 已经可以在 TEM 中引入气、液、热、电、冷冻等多种状态，提供 Wildfire TEM 原位加热样品杆、Lightning TEM 原位热电样品杆、Climate Infinity TEM 原位气相加热加电样品杆以及 Stream Infinity TEM 原位液相加热加电样品杆以及 Lightning Arctic 原位冷冻热电样品杆，为材料科学研究提供了强大的工具，推动了纳米材料、催化剂和纳米电子器件等域的创新。

DENSsolutions，将电镜从静态成像工具变身为多功能实验室，助力您引纳米科技沿！

ForgeNano 粉末原子层沉积系统

Forge Nano 是全球先的粉末原子层沉积方案供应商，利用其独特的平台技术，可以在高比表面积的粉末颗粒表面构筑超薄的纳米涂层或活性组分，开发多种涂层工艺。同时，Forge Nano 是可将粉体ALD技术进行工业化放大的企业（千吨粉末处理能力）。我们诚挚地邀请广大科研工作者，利用新型 ALD 平台开发可放大的粉体涂层工艺，为新能源、催化、粉末冶金以及制药等研究方向带来更多无限可能。

Forge Nano 粉末ALD系统

• 20年粉末ALD技术沉淀，注粉末工程，引行业沿

• 集成式在线质谱实时监测，涂层生长全程可视化，确保工艺精度

• 从毫克实验到千吨量产，Forge Nano ALD一站式解决

• 流化床创新设计，提升气体传输效率，避免粉末团聚

• 全球创旋转床+可视化监测，无需过滤芯设计

• 支持代包覆合作方案

型号推荐

Forge Nano 粉末原子层沉积系统

PROMETHEUS 流化床ALD系统

利用 Prometheus 流化床原子层沉积系统可开发探索复杂的高比表面积粉末涂层，实现克到公斤粉末材料的界面涂层生长。批次处理能力提升至企业验证需求的水平，可加快成果转化速度。适合兼顾科学研究以及成果转化的工艺开发需求，实现与企业小试要求的无缝衔接。

PANDORA 多功能ALD系统

Pandora 多功能原子层沉积系统使用操作简单，兼容性强，适合在期快速开展粉末包覆和平面样品薄膜沉积的研究。同时，该系统能真正做到兼顾多种不同样品的需求，可处理各种复杂样品并做到 ALD 包覆。

VSParticle 纳米研究平台

纳米制造技术作为纳米科技应用的基石，对于实现科研成果的产业化具有举足轻重的作用。新型的纳米制造实验设备可促进科学成果从 0 到 1 的突破以及成果的商业化转化，是科研设备更新的重要方向。在纳米科技的沿域，荷兰 VSParticle 公司以其革命性的火花烧蚀纳米气溶胶沉积技术，为研究者和产业界带来了一系列创新的纳米颗粒制备和印刷沉积设备。

VSParticle 将先进的纳米多孔层打印技术与多伦多大学的测试平台和 Meta AI 的模型结合在一起，在短短几个月内，就从不同的元素组合中合成了 525 种材料，以发现应对气候变化的电催化材料，建立了大的开源实验催化剂数据库。目 VSParticle 纳米沉积系统在浙江大学，东南大学，北京工业大学，中科院物理所，中南大学，广东工业大学等知名学术机构和企业均已装机。火花烧蚀沉积技术的独特性已被众多学者证明，在Nature，Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊发表相关文章，是新型纳米制造的利器。（推荐阅读：Nature 大子刊、AM 都在用!气溶胶沉积助力科研“弯道超车”）

型号推荐

VSParticle 纳米气溶胶沉积系统

VSP-P1 纳米印刷沉积系统

VSP-P1 纳米印刷沉积系统是 VSParticle 产品线中的设备，为材料开发和小规模生产测试而设计。利用火花烧蚀材料的冲压沉积技术，能够实现从稀疏团聚体到厚达几微米的连续层的不同层厚度印刷沉积。它的图案化打印功能使得研究人员能够在非半导体类的纳米薄膜应用中实现精细的厚度控制。VSP-P1 在催化剂涂层膜的开发、电催化剂筛选和气体传感器研究中展现了其性能和灵活性。

VSP-G1 纳米粒子发生器

VSP-G1 纳米粒子发生器是一台桌面式仪器，可生成尺寸范围为 1 – 20 nm 的纯金属、金属氧化物、碳、半导体、合金纳米气溶胶材料。纳米颗粒的生产采用纯物理火花烧蚀技术制备，在气相中进行，无需真空，无需使用表面活性剂或驱体。用于纳米粒子生产的源材料仅需材料制成所需的两根靶材（电），使用时只需安装电并设置参数，按下按钮即可开始生成纳米颗粒。

VSP-S1 纳米粒径筛选沉积系统

VSP-S1 是 VSP-G1 的理想伴侣，它是一款用户友好的纳米粒子尺寸选择器，能够轻松筛选出 1-10nm 范围内的单一尺寸颗粒。VSP-S1 纳米粒径筛选沉积系统提供 0.1nm 分辨率的准确控制；适用于原位 TEM 研究和尺寸依赖的效应研究；具备实时跟踪功能，确保样品一致性和可靠性。