高精度蠕动泵与半导体行业的关系
　　许多实验室及轻工制造商对高精度蠕动泵的要求非常严格，要确保实验结果的准确性、数据的可靠性，保证生产流程的连续性和稳定性。因此在物料的传输，各种试剂的计量和添加应用中，要求高精度蠕动泵传输精度高，稳定性好，操作简便及维护简单。
　　高精度蠕动泵是一种能选择流量、地得到您所需的液量、能设定工作时间、可以连续循环地间隙运转、自动计算流量和输送量等。当输液量达到预置量后会自动发出声音报警，还具有断电数据保护功能，在工作停止关机后，再一次打开还能继续上一次使用设定的各项数据。
　　半导体制造要求始终控制工艺工具中的液体流动，苛刻的应用之一是化学机械平坦化（CMP）。当CMP工具不能将一致的浆料速率分配到抛光基材上时，它会对产量，化学品使用和材料完整性产生极大的负面影响。晶圆厚度的变化，缺陷密度的增加，工具停机时间和晶圆废料的增加只是流程控制不良可能导致的一些问题。
高精度蠕动泵非常适合半导体行业的高纯度和腐蚀性化学环境，对于CMP，提供了在抛光过程中的使用点浆料流分配到晶片所需的线性和可重复性，低剪切力对CMP浆料温和，其变速操作允许在很宽的操作范围内控制流量，以保持过程的完整性。
　　浆料的性能可实现的晶圆平面度，高精度蠕动泵通过控制浆料输送和分配，有助于实现这一目标。高精度蠕动泵的非侵入式设计提供了直的流动路径，没有死流区域，使浆料凝聚，硬化并污染过程。流速达到±0.5％。提供的稳定的流体输送不仅可确保浆料不断流向抛光垫，还可减少浆料，化学品和去离子水的浪费。