研磨机所有不同的厂家_第62页

臼式研磨机

臼式研磨仪以仿传统的手工研磨方式为基础，通过研钵和臼杵的摩擦和挤压，从而完成样品的粉碎。

更新时间:2025-10-20

该公司产品分类：上海久滨仪器有限公司

DW-30ADW-30A 研磨机冷水机

产品概述研磨机冷水机随着现代科学技术的发展，产品的多样化要求，一些工艺和设备常温水满足不了要求，如医药化工，食品与饮料，特殊电子材料的制作等这些高子端行业经常需要低温冷冻机达到工艺使用要求ⅳ.机组特点

更新时间:2025-10-20

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CMD2000红霉素眼膏剂胶体磨，软膏胶体磨，凡士林软膏胶体磨，金霉素红霉素软膏胶体磨，胶体磨或者改进型胶体磨

红霉素眼膏剂胶体磨，软膏胶体磨，凡士林软膏胶体磨，金霉素红霉素软膏胶体磨，胶体磨或者改进型胶体磨cmd2000系列改进型胶体

更新时间:2025-10-20

该公司产品分类：上海依肯机械设备有限公司

CM2000高速湿法粉碎机

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎的效果。

更新时间:2025-10-20

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CMD2000碳管超高速纳米研磨分散机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMD2000食用二氧化钛研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMD2000水性丙烯酸色浆高速纳米研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000二氧化钛新型高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CM2000鱼鳞胶原蛋白高速研磨机

cm2000在线式鱼鳞胶原蛋白高速研磨机。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000石墨烯改性润滑脂分散机

cmsd2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第yi由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要

更新时间:2025-10-20

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透明冻胶类物质高速胶体磨使用寿命很长，故障率低，稳定性强，正常使用的情况下可使用7年以上，无易损件。比普通胶体磨（高转速2930转）高出4-5倍转速（14000转），剪切分散效果更好；设备整机夹套，可根据需求加热货冷却；工作腔体及罐体夹套中的介质可根据需求通水/冷却液/浆料中的液体介质/导热油等均可；定转子间间隙仅为0.2-0.4mm（间隙可调，研磨细度可控），而普通胶体磨的定转子间隙为1mm以上

更新时间:2025-10-20

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CMD2000实验室高速湿磨机，高速湿磨机，湿磨机

实验室高速湿磨机，高速湿磨机，ikn湿磨机20000转超高速湿磨机基于转子-定子原理。ikn湿磨机的输入剪切能大，可实现10微米及以下粒度。更多详情请致电上海依肯销售工程师徐工 182-0189-1183，ikn设有用实验室可以免费进行物料测试。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000中试型高速湿磨机,高速湿磨机，湿磨机

中试型高速湿磨机,高速湿磨机，湿磨机，更多详情请致电上海依肯销售工程师徐工 182-0189-1183，公司有样机可以免费进行测试。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000高性能富锂材料高速分散研磨机

cmsd改进型高速研磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMD2000在线式硅酸铝纤维改进型高速胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000硅酸铝高速纳米研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000油性医药混悬液高速研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000可膨胀石墨湿法研磨分散机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000膨胀石墨阻燃材料高剪切高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨研磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000中药超微研磨粉碎胶体磨

cm2000在线式中药超微研磨粉碎胶体磨。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000机械法石墨高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000高效剥离石墨烯高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000改性白炭黑纳米研磨分散机

cmsd改进型胶体磨研磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000相变材料硅凝胶高速均质胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMS2000液体石蜡高速纳米胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

更新时间:2025-10-20

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CMS2000泡腾片高速胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

更新时间:2025-10-20

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CMS2000管线式高速湿法胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

更新时间:2025-10-20

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CM2000光催化高速纳米研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMS2000湿法管线式高速胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

更新时间:2025-10-20

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CMD2000虾饲料高速纳米胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMD2000德国高速纳米胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CM2000酱料高速胶体磨，高速胶体磨，胶体磨

酱料高速胶体磨，高速胶体磨，胶体磨，公司有样机可以免费进行测试，更多详情请致电上海依肯销售工程师徐工 182-0189-1183.

更新时间:2025-10-20

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CM2000管线式高剪切超微研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

该公司产品分类：上海依肯机械设备有限公司

CM2000立式高剪切超微研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

该公司产品分类：上海依肯机械设备有限公司

CM2000高温锡膏在线式胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

该公司产品分类：上海依肯机械设备有限公司

CM2000无铅锡膏连续在线式高速胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000德国研磨分散一体机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000超微细油墨研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000阻燃型高分子材料研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000阻燃型高分子材料高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMD2000纳米银粉超高速研磨分散机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000原料药高速湿法粉碎胶体磨

cmsd改进型胶体磨湿法超微粉碎研磨机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000微纳米粉体高速湿磨机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000德国IKN高精细度研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMSD2000石墨烯导电浆料高速研磨机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMS2000糖浆剂均质胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

更新时间:2025-10-20

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CM2000环氧树脂涂料高剪切纳米研磨机

环氧树脂涂料高剪切纳米研磨机cm2000系列是门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。cm2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。

更新时间:2025-10-20

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CM2000石墨烯导电液纳米研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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CMD2000促肝细胞生长素均质胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

该公司产品分类：上海依肯机械设备有限公司

CM2000核桃乳高速湿法研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

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