研磨机所有不同的厂家_第60页

CMSD2000猪用混悬液高速胶体磨

cmsd改进型胶体磨湿法研磨粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-10-20

该公司产品分类：上海依肯机械设备有限公司

CM2000西洋参管线式湿法高速胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000猪脾脏高速纳米研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000跟腱蛋白管线式高速胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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微纳米氧化铁颜料湿法研磨机

ikn设备粉碎室设有三道磨碎区，一为粗磨碎区，二为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

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CM2000IKN中药固体药粉浸膏高速研磨机胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000IKN德国效湿法高速分散粉碎机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN德国重油渣油沥青高速研磨乳化机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMO2000IKN德国锥形磨机，食品医药高速锥体磨

锥体磨cmo 2000 是在cm 2000基础上的进-步优化产品，有着更新的技术创新。锥形刀具间隙可调节至小，来减小颗粒粒径，从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高质材料，如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷，具有好的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护，防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同，可以灵活调节间隙，保证处理效果的均一。

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CM2000食品二氧化钛高速研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000IKN德国二氧化钛改进型高速研磨分散机

cmsdikn德国二氧化钛改进型高速研磨分散机，线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000IKN德国在线式蜂皇浆胶体磨，食品胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000IKN德国氧化铝抛光液高剪切研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000IKN德国陶瓷膜高剪切胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000IKN德国医药高速纳米研磨机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法研磨机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。符合cip和sip的清洁标准,因此特别适合于食和药品生产

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CMSD2000IKN德国石墨碳基材料表面印刷均匀度乳化机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000新型石墨复合材料高速研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000IKN德国油墨研磨分散机

ikn德国油墨研磨分散机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN超小粒径胶束溶液早强剂高剪切研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN超微细混悬液高转速胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000高速研磨分散机

高速研磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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猪脾脏高速剪切在线式连续生产胶体磨

猪脾脏高速剪切在线式连续生产胶体磨，猪脾破碎提取胶体磨，动物脏器破碎胶体磨，免疫动物组织破碎胶体磨，免疫动物组织破碎胶体磨...更多详情请致电 ikn 徐工 182-0189-1183，公司有样机可以进行实验测试。

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CMSD2000流体半流体纳米胶体磨

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN德国白炭黑改性湿法高速粉碎机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000IKN氢氧化铝阻燃剂超高速胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN石墨烯油墨功能化浆料研磨分散机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000二氧化钛阻燃剂混合浆料高剪切分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMO2000IKN德国动物疫苗超高速纳米锥体磨

锥体磨cmo 2000 是在cm 2000基础上的进-步优化产品，有着更新的技术创新。锥形刀具间隙可调节至小，来减小颗粒粒径，从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高质材料，如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷，具有好的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护，防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同，可以灵活调节间隙，保证处理效果的均一。

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CMD2000IKN石墨烯小试中试生产用小型分散机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000牛胸腺组织匀浆胶体磨

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000IKN实验室胶体磨，小体积小型胶体磨，高剪切实验室研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000IKN油田石油催化剂胶体磨

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMO2000IKN鱼明胶胶原蛋白锥形胶体磨

锥体磨cmo 2000 是在cm 2000基础上的进-步优化产品，有着更新的技术创新。锥形刀具间隙可调节至小，来减小颗粒粒径，从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高质材料，如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷，具有好的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护，防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同，可以灵活调节间隙，保证处理效果的均一。

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CMSD2000IKN纳米湿法胶体磨，纳米胶体磨，纳米超微粉碎机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000阿胶特饮管线式胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求

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CMD2000实验室湿法粉碎机，湿法粉碎机，粉碎机

实验室湿法粉碎机，湿法粉碎机，粉碎机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。更多详情请致电上海依肯销售工程师徐工 182-0189-1183

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CMSD2000德国进口高速湿法研磨机，实验室湿法高速混合研磨机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000医用高分子材料胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000德国IKN复配食品防腐剂高速胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN植物营养液高速均质胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000香精微胶囊高速胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000黑芝麻蜜胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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CMO2000德国IKNGMP陶瓷胶体磨

锥体磨cmo2000是在cm2000基础上的进-步优化产品，有着更新的技术创新。锥形刀具间隙可调节至小，来减小颗粒粒径，从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高质材料，如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷，具有好的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护，防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同，可以灵活调节间隙，保证处理效果的均一。

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CMSD2000氧化铝纤维生物医学材料高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000CMC空心胶囊胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000口服液高速胶体磨

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000菌藻类胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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