等离子清洗器产品及厂家
hk-ltps100a低温等离子体灭菌系统是新代医用灭菌设备，采用过氧化氢低温等离子体灭菌技术。可以对不耐湿热的器械进行低温快速灭菌。特别是对医用电子器械（如骨科电锯、电钻、高频电刀导线、电池等）和非金属类（如导管、光纤窥镜、硅橡胶制等）物的灭菌，具有显著的优势。在环保、节能、低温、快速、安全方面优势明显
更新时间:2025-12-17
npe-4000（a）全自动pecvd等离子体化学气相沉积系统概述：nano-master pecvd系统能够沉积高质量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可达6” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过rf或脉冲dc产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个mfc.带有独一无二气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别激活某些活性组份，这样系统可以覆盖最广的可能性来获得各种沉积参数。
更新时间:2025-12-17
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
npc-4000（m）等离子清洗机概述：nano-master 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
更新时间:2025-12-17
npc-3500（a）全自动等离子清洗/去胶机概述：nano-master 等离子清洗和灰化系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
更新时间:2025-12-17
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
npc-4000（a）全自动等离子清洗/去胶机概述：nano-master 等离子清洗和灰化系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
更新时间:2025-12-17
nie-3500 (mc)离子束清洗系统产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为国际知名品牌。
更新时间:2025-12-17
npc-3000等离子清洗/去胶机概述：nano-master 等离子灰化和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用
更新时间:2025-12-17
nie-3000 (c) 离子束清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。
更新时间:2025-12-17
nie-3500 (ac)全自动离子束清洗系统产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。
更新时间:2025-12-17
npe-4000（m） pecvd等离子体化学气相沉积系统概述：nano-master pecvd系统能够沉积高质量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过rf或脉冲dc产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个mfc.带有独一无二气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别激活某些活性组份，这样系统可以覆盖最广的可能性来获得各种沉积参数。
更新时间:2025-12-17
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
npc-3500（m）等离子清洗/去胶机概述：nano-master 等离子清洗和灰化系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
更新时间:2025-12-17
等离子清洗机是一种表面处理设备, 用气体作为处理介质，它是利用能量转换技术以电能将气体转换为化学反应性和活性很高的气体等离子体，等离子体对固体样品表面进行相互作用，引起分子结构改变，从而对样品表面的有机污染物进行超清洗和使样品表面改性，以获得希望的表 面特性。
更新时间:2025-12-17
德国 pva tepla等离子清洗系统80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有别于传统的射频等离子(物理)清洗方式，微波等离子清洗可以清洗到样品的每一个部位，实现清洗过程的自由基不会被障碍物所阻挡，并且不会改变表面的粗糙度。
更新时间:2025-12-17
等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、led、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的。
更新时间:2025-12-16
等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、led、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的。
更新时间:2025-12-16
等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、led、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的
更新时间:2025-12-16
等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、led、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的
更新时间:2025-12-16
等离子清洗设备广泛应用于材料学、微电子、半导体、新能源、线路板、led、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的。
更新时间:2025-12-16
等离子清洗机（plasma cleaner）也叫等离子清洁机、等离子表面处理仪，是一种低能耗、清洁、环保、处理均匀的的高科技技术，它利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。
更新时间:2025-12-16
等离子清洗能实现清洗、涂覆、接枝、刻蚀四大功能，改变材料表面性能！该设备具有较大的腔体尺寸和有效样品处理面积，使用成本低,性价比高，处理快速高效，特别适合于大学，科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。
更新时间:2025-12-16
等离子清洗机（plasma cleaning）能实现清洗、涂覆、接枝、刻蚀四大功能，改变材料表面性能！该设备具有较大的腔体尺寸和有效样品处理面积，使用成本低,性价比高，处理快速高效，特别适合于大学，科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。
更新时间:2025-12-16
等离子清洗机（plasma cleaning）能实现清洗、涂覆、接枝、刻蚀四大功能，改变材料表面性能！该设备具有较大的腔体尺寸和有效样品处理面积，使用成本低,性价比高，处理快速高效，特别适合于大学，科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。
更新时间:2025-12-16
专为处理粉体如粉末、颗粒状材料样品而设计的粉体专用等离子清洗机，可以高效率地处理微细的甚至分子级别的超细粉体材料，改变传统真空等离子清洗机无法处理粉体样品的问题。同时可实现常规等离子清洗。
更新时间:2025-12-16
vgb系列手套箱专用等离子清洗设备，优化的腔体结构及合理的结构设计更适合手套箱内使用。安装简单方便，性能稳定，实用性强，容易维护。
更新时间:2025-12-16
cpc系列等离子清洗机是为中试客户和工业级客户而设计的等离子体表面处理设备。配置丰富，且真空腔体里可分层，适合大多数生产场景清洗，活化、刻蚀等应用。设备可在严苛环境下稳定运行，产品性能稳定，样品处理重复性、一致性好。
更新时间:2025-12-16
cif透射电镜（tem）样品杆清洗机采用远程离子清洗源设计，清洗快速高效，低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于tem透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏。
更新时间:2025-12-16
tem透射样品杆长期暴露于大气中，空气中水汽及污染物会附着于样品杆表面，会导致电镜抽真空时间延长，污染电镜真空腔室、探测器等，影响电镜的使用寿命
更新时间:2025-12-16
等离子可以应用于材料接合或精确改变材料表面属性。通过这项前瞻性技术可以改变几乎所有的材料表面。
更新时间:2025-12-16
等离子可以应用于材料接合或精确改变材料表面属性。通过这项前瞻性技术可以改变几乎所有的材料表面。等离子体技术可应用于不同材料，例如：玻璃、金属、塑料制品、纺织品和陶瓷制品。
更新时间:2025-12-16
等离子工艺除清洗与活化外，还具有蚀刻与涂层的功能。可以应用于多种领域。
更新时间:2025-12-16
tetra 30等离子系统能够以不同的形式进行整合，可以满足生产企业需求，也能够按照客户要求进行定制。
更新时间:2025-12-16
对于常压等离子技术，等离子的生成是由于气体在大气压力下通过高电压而被激发。等离子由高压气体驱动从喷嘴中一同喷出。其等离子效应可以分为以下两种：表面激活及精密清洗 通过等离子束中所携带的反应粒子实现此外，松散附着于材料表面的微尘将由高压加速的激活气流带走
更新时间:2025-12-16
对于常压等离子技术，等离子的生成是由于气体在大气压力下通过高电压而被激发。等离子由高压气体驱动从喷嘴中一同喷出。其等离子效应可以分为以下两种：表面激活及精密清洗 通过等离子束中所携带的反应粒子实现此外，松散附着于材料表面的微尘将由高压加速的激活气流带走
更新时间:2025-12-16
cap-auto系列全自动在线式大气等离子清洗机采用单轴模组配合旋喷等离子组件，喷洗高度可调，运动轨迹可根据要求设定，上下料方式采用链条或皮带传动连接前后工序，实现对产线产品的等离子清洗处理。
更新时间:2025-12-16
cpc-auto在线片式真空等离子清洗机具有成本较低、容易使用，维护乃保养费用低，环保等优点。适用于芯片粘结工艺前、引线键合和覆晶封装工艺前的表面处理，与传统独立式的等离子清洗机相比，在线片式真空等离子清洗机具有自动化程度高、清洗效率高、设备洁净度高、适用范围广等优点，适用于大规模全自动化生产。
更新时间:2025-12-16
等离子去胶机，采用电感耦合各向同性（各个方向）等离子激发方式，适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体去胶。特别适合于大学，科研院所和微电子、半导体企业实验室，对电路板、外延片、芯片、环氧基树脂、mems制造过程中牺牲层，干刻或湿刻处理前或后，对基材进行聚合物剥离、金属剥离、掩膜材料等光刻胶去除，以及晶圆表面预处理等。
更新时间:2025-12-16
plasma-preen 微波级等离子清洗机是 一台小型台式设备，可以用来清洗和刻蚀。 plasma-preen 等离子清洗机系统融合了诸多工艺特点，并在众多的应用领域中得到了肯定。
更新时间:2025-12-16
plasma-preen 微波级等离子清洗机是 一台小型台式设备，可以用来清洗和刻蚀。 plasma-preen 等离子清洗机系统融合了诸多工艺特点，并在众多的应用领域中得到了肯定。
更新时间:2025-12-16
美国pie公司出品的semi-kleen 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜，深紫外光刻机，电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。
更新时间:2025-12-16
最新产品
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