等离子清洗器产品及厂家

NPC-4000 (A)NPC-4000 (A) 全自动等离子清洗机去胶机

NPC-4000 (A) 全自动等离子清洗机去胶机
npc-4000（a）全自动等离子清洗/去胶机概述：nano-master 等离子清洗和灰化系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
更新时间:2025-12-17
该公司产品分类： 那诺-马斯特中国有限公司

NIE-3500 (MC)NIE-3500 (MC) 离子束清洗系统

NIE-3500 (MC) 离子束清洗系统
nie-3500 (mc)离子束清洗系统产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。所有核心组件均为国际知名品牌。
更新时间:2025-12-17
该公司产品分类： 那诺-马斯特中国有限公司

NPC-3000NPC-3000 等离子清洗机去胶机

NPC-3000 等离子清洗机去胶机
npc-3000等离子清洗/去胶机概述：nano-master 等离子灰化和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用
更新时间:2025-12-17
该公司产品分类： 那诺-马斯特中国有限公司

NIE-3000 (C)NIE-3000 (C) 离子束清洗系统

NIE-3000 (C) 离子束清洗系统
nie-3000 (c) 离子束清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。
更新时间:2025-12-17
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NIE-3500 (AC) NIE-3500 (AC) 全自动离子束清洗系统

NIE-3500 (AC) 全自动离子束清洗系统
nie-3500 (ac)全自动离子束清洗系统产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为国际知名品牌。
更新时间:2025-12-17
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NPE-4000 (M)NPE-4000 (M) 等离子体化学气相沉积系统

NPE-4000 (M) 等离子体化学气相沉积系统
npe-4000（m） pecvd等离子体化学气相沉积系统概述：nano-master pecvd系统能够沉积高质量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势.样品台可以通过rf或脉冲dc产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个mfc.带有独一无二气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别激活某些活性组份，这样系统可以覆盖最广的可能性来获得各种沉积参数。
更新时间:2025-12-17
该公司产品分类： 那诺-马斯特中国有限公司

SWC-4000 (C) SWC-4000 (C) 兆声清洗系统

SWC-4000 (C) 兆声清洗系统
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
该公司产品分类： 那诺-马斯特中国有限公司

SWC-3000 (M) SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机

SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
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LSC-4000 (C) LSC-4000 (C) 兆声大基片清洗系统

LSC-4000 (C) 兆声大基片清洗系统
最新技术的兆声和清洗技术的发展，对mems和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了最新的水平，可以帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。
更新时间:2025-12-17
该公司产品分类： 那诺-马斯特中国有限公司

NPC-3500 (M)NPC-3500 (M) 等离子清洗机

NPC-3500 (M) 等离子清洗机
npc-3500（m）等离子清洗/去胶机概述：nano-master 等离子清洗和灰化系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用pc控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有独一无二的能力:可以从pe等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式,也就是说可以支持各向同性和各向异性的各种应用。
更新时间:2025-12-17
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