光学平台产品及厂家
日本elionix 超高精密电子束光刻系统 els-f150, 是上第 个150千伏电子束光刻系统。支持单位纳米用于高研究的设备制造。
更新时间:2025-07-02
日本电子 jsm-7610fplus，用于纳米科学的肖特基场发射扫描电子显微镜， 是款采用半浸没式物镜、拥有超高分辨率的场发射扫描电子显heidelberg 海德堡 μmla桌面无掩模光刻机
更新时间:2025-07-02
dwl 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光
更新时间:2025-07-02
德国海德堡 heidelberg 激光直写光刻机 mla150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高效数位光刻与灰度光刻.
更新时间:2025-07-02
octoplus 500 mbe系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的iii/v族或者ii-vi族异质结构材料而研发业分子束外延系统。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。标准的octoplus 500有11个呈放射状分布的源孔，可以根据需要增选3个源孔。
更新时间:2025-07-02
德国leica em txp全新精研一体机，是一款独特的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具，特别适合于sem，tem及lm观察之对样品进行切割、抛光等系列处理。它尤其适合于制备高难度样品，如需要对目标精细定位或需对肉眼难以观察的微小目标进行定点处理。
更新时间:2025-07-02
keyence 基恩士 形状测量激光显微系统全新 vk-x3000，纳米 / 微米 / 毫米，一台即可完成测量。292 种分析工具，一台即可了解希望获取的信息。一台即包含了光学显微镜，台阶仪，光学轮廓仪，及电镜功能。
更新时间:2025-07-02
日本rion液体光学颗粒度仪ks-19f,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。octoplus 400 是一款通用型mbe系统，非常适合于iii/v族， ii/vi族，及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计，可以装配各种源炉，实现不同材料分子束外延生长。
更新时间:2025-07-02
evg的hercules nil 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是evg的nil产品组合的新成员。 hercules nil基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与evg的有smartnil大面积纳米压印（nil）模块结合在一起，用于直径大为300 mm的晶片。
更新时间:2025-07-02
evg720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。evg720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。
更新时间:2025-07-02
液体光学颗粒度仪 ks-42c，宽广的测试范围，可测试 0.5~20um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。
更新时间:2025-07-02
美国 lakeshore 振动样品磁强计 8600系列：model 8604, model 8607, 更科学，更高效
更新时间:2025-07-02
德国yxlon 定制化的标准x射线检测系统cheetah evo，为封装检测、半导体及实验室应用量身定制、
更新时间:2025-07-02
德国yxlon 定制化的紧凑型标准x射线检测系统cougar evo ，为封装检测、半导体及实验室应用量身定制
更新时间:2025-07-02
韩ecopia 变温光霍尔效应测试仪 hms-7000，可以通过改变照射在样品上的不同波长范围的光源（红、绿、蓝光源）， 得出载流子浓度、迁移率、电阻率及霍尔系数等半导体电学重要参数随光源强度变化的曲线。
更新时间:2025-07-02
日本rion光遮蔽粒子计数器 kl-05,（光渗透法），可测试粒径范围：1~20个通道范围，1.3μm~100（0.1μm的间隔）大粒子数浓度：10 000 颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion液体光学颗粒度仪：ks-93( 光散射法），大粒子数浓度：30 000 颗/l （误差值低于5%），粒径范围（5个通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm， ≥25μm
更新时间:2025-07-02
日本rion粒子计数器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子数浓度：10000颗/l （误差值低于5%）,可检测从纯水到氢氟酸各种各样的液体。
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：kc-32 ( 光散射法）测试粒径（6个通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：kc-20a ( 光散射法）,测试粒径（5个通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新时间:2025-07-02
日本rio液体粒子计数器ke-18fx ( 光散射法）,测试粒径（4个通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，
更新时间:2025-07-02
日本rion液体光学颗粒度仪 ks-42d ( 光散射法），大粒子数浓度：10 000 颗/l （误差值低于10%），粒径范围（8个通道，出厂默认）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可选 ≥150μm）
更新时间:2025-07-02
日本rion粒子计数器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子数浓度：15 000 颗/l （误差值低于10%）, 粒径范围（4个通道，工厂标配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：kl-30a ( 光散射法）, 测纯水，可打印。大粒子数浓度：15 000 颗/l （误差值低于10%）, 粒径范围（4个通道，出厂设置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：kl-30b ( 光散射法）, 测纯水，可打印。大粒子数浓度：200 000 颗/l （误差值低于10%），粒径范围（4个通道，出厂设置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新时间:2025-07-02
日本rion 手持式粒子计数器：kc-51( 光散射方式）,大粒子数浓度：140 000 000颗/m³ （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion 手持式粒子计数器：kc-52( 光散射方式）,粒径范围：5个通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子数浓度：140 000 000颗/m³ （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：ka-02( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（2个通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子数浓度：140 000 000颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：ka-03( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（5个通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子数浓度：140 000 000颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：ka-82( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（5个通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子数浓度：10 000颗/l （误差值低于5%）
更新时间:2025-07-02
玻璃去油墨设备,采用订制紫外纳激光器对玻璃表面进行去油墨以及油墨微加工， 将产品损伤降至低。
更新时间:2025-07-02
oai 800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。
更新时间:2025-07-02
瑞士nanofrazor 3d纳米结构高速直写机，源于发明stm和afm的ibm苏黎世研发中心，是其在纳米加工技术的新研究成果。nanofrazor纳米3d结构直写机第 一次将纳米尺度下的3d结构直写工艺快速化、稳定化。
更新时间:2025-07-02
nanoarch科研3d打印机m160 ，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3d打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4d打印等方面。
更新时间:2025-07-02
nanoarch微纳3d打印机 p130/s130 ，科研3d打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间:2025-07-02
nanoarch 3d打印机p140/s140 ，科研3d打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间:2025-07-02
理音rion kz-30uk采样器，易于操作的室内化学采样器，当腔体压力过高的时候， 可以排净空气，防止发生故障 ，设计简单的化学防爆采样器，kz-30uk的设计是可以为 离线测试的液体粒子计数器提供加压。
更新时间:2025-07-02
美nano-master热蒸镀系统：nte-4000 独立式电子束蒸镀，nte-3500 紧凑型独立式热蒸镀，nte-3000 双蒸源台式热蒸镀系统，nte-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟nano-master那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。
更新时间:2025-07-02
美nano-master磁控溅射系统：nsc-4000独立式磁控溅射系统，可支持共溅射等能力的扩展nsc-3500紧凑型独立式热蒸镀，可以支持金属材料的dc溅射，介质材料的rf溅射，以及脉冲dc溅射等应用。nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射nsc-1000单金靶靶材的台式溅射系统，不但可用于电镜制备，也可以用于常规的金属溅射
更新时间:2025-07-02
nano-master的等离子增强化学气相沉积系统pecvd系统npe-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆，可通过射频、脉冲直流或者直流电源提供偏压，可通过热电阻或者红外灯加热到800°c。ns
更新时间:2025-07-02
nano-master电子束蒸镀系统 nee-4000，可通过样片掩膜实现组合蒸镀，并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升支持自动上下片，以及手动或自动翻转样片实现双面镀膜。该系列的e-beam电子束蒸镀系统，也可以跟磁控溅射
更新时间:2025-07-02
ibm离子铣/ibe离子束刻蚀系统：nie-4000 独立式 ibe 刻蚀系统nie-3500 紧凑型独立式 ibe 刻蚀系统nir-4000 独立式 ibe / rie 双刻蚀系统nie-3000 台式 ibe 刻蚀系统nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射
更新时间:2025-07-02
nano-master等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独一无二的从等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式的能力。$r
更新时间:2025-07-02
美nano-master ald/peald原子层沉积：nld-4000 独立式ald系统nld-3500 紧凑型独立式ald系统nld-3000 台式ald系统
更新时间:2025-07-02
美nano-master rie反应离子刻蚀系统nrr-4000 独立式双rie或icp刻蚀系统nre-4000 独立式rie或icp系统nre-3000 台式rie系统ndr-4000 深硅刻蚀系统
更新时间:2025-07-02
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