光学平台产品及厂家
光具座是种通用性强，用途广泛的光学测试仪器，它主要应用于照相物镜系统、望远系统及各类光学零件等光学几何参数的测量及其成像质量的评定，还可以应用于对棱镜的角度进行测量。仪器带有多种附件，适用于光学零件及光学仪器生产过程的质量检验及科研教学中使用。
更新时间:2025-10-13
光学透镜采用磁吸式，可以吸附在铁板上，中间圆盘可以通过后面的旋钮360度旋转，五线光源采用5个开关控制，线条可任意使用。尺寸：35*12*30cm
更新时间:2025-10-13
玻璃去油墨设备,采用订制紫外纳激光器对玻璃表面进行去油墨以及油墨微加工， 将产品损伤降至低。
更新时间:2025-10-11
oai 800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。
更新时间:2025-10-11
瑞士nanofrazor 3d纳米结构高速直写机，源于发明stm和afm的ibm苏黎世研发中心，是其在纳米加工技术的新研究成果。nanofrazor纳米3d结构直写机第 一次将纳米尺度下的3d结构直写工艺快速化、稳定化。
更新时间:2025-10-11
nanoarch科研3d打印机m160 ，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3d打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4d打印等方面。
更新时间:2025-10-11
nanoarch微纳3d打印机 p130/s130 ，科研3d打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间:2025-10-11
nanoarch 3d打印机p140/s140 ，科研3d打印系统，拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间:2025-10-11
理音rion kz-30uk采样器，易于操作的室内化学采样器，当腔体压力过高的时候， 可以排净空气，防止发生故障 ，设计简单的化学防爆采样器，kz-30uk的设计是可以为 离线测试的液体粒子计数器提供加压。
更新时间:2025-10-11
美nano-master热蒸镀系统：nte-4000 独立式电子束蒸镀，nte-3500 紧凑型独立式热蒸镀，nte-3000 双蒸源台式热蒸镀系统，nte-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟nano-master那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。
更新时间:2025-10-11
美nano-master磁控溅射系统：nsc-4000独立式磁控溅射系统，可支持共溅射等能力的扩展nsc-3500紧凑型独立式热蒸镀，可以支持金属材料的dc溅射，介质材料的rf溅射，以及脉冲dc溅射等应用。nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射nsc-1000单金靶靶材的台式溅射系统，不但可用于电镜制备，也可以用于常规的金属溅射
更新时间:2025-10-11
nano-master的等离子增强化学气相沉积系统pecvd系统npe-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆，可通过射频、脉冲直流或者直流电源提供偏压，可通过热电阻或者红外灯加热到800°c。ns
更新时间:2025-10-11
nano-master电子束蒸镀系统 nee-4000，可通过样片掩膜实现组合蒸镀，并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升支持自动上下片，以及手动或自动翻转样片实现双面镀膜。该系列的e-beam电子束蒸镀系统，也可以跟磁控溅射
更新时间:2025-10-11
ibm离子铣/ibe离子束刻蚀系统：nie-4000 独立式 ibe 刻蚀系统nie-3500 紧凑型独立式 ibe 刻蚀系统nir-4000 独立式 ibe / rie 双刻蚀系统nie-3000 台式 ibe 刻蚀系统nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射
更新时间:2025-10-11
nano-master等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求，从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制，可以配套不同的等离子源，加热和不加热的基片夹具，以及独一无二的从等离子刻蚀切换到rie刻蚀模式的能力。$r
更新时间:2025-10-11
美nano-master ald/peald原子层沉积：nld-4000 独立式ald系统nld-3500 紧凑型独立式ald系统nld-3000 台式ald系统
更新时间:2025-10-11
美nano-master rie反应离子刻蚀系统nrr-4000 独立式双rie或icp刻蚀系统nre-4000 独立式rie或icp系统nre-3000 台式rie系统ndr-4000 深硅刻蚀系统
更新时间:2025-10-11
美nano-master 热真空太空模拟系统 ndt-4000,是一款器件测试系统，俗称“热真空系统”,可以用于真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。
更新时间:2025-10-11
美nano-master rtp快速退火炉nrt-3500 紧凑型独立式全自动rtp系统nrt-4000 独立式全自动rtp系统nrt-4000 独立式大批量rtp系统nir-4000 独立式 ibe / rie 双刻蚀系统nie-3000 台式 ibe 刻蚀系统nsc-3000可支持多4个靶的dc溅射或rf溅射
更新时间:2025-10-11
美nano-master swc单晶圆清洗系统swc-3000 台式单晶圆/掩膜版清洗系统swc-4000 立柜式单晶圆/掩膜版清洗系统swc-5000 带25片cassette 机械手自动清洗nrt-4000 独
更新时间:2025-10-11
美nano-master 大基片清洗机 large substrate cleaning :lsc-4000 是一款独立式清洗机，使用计算机控制，大可支持外径21”的基片。
更新时间:2025-10-11
韩国ecopia 全自动变温霍尔效应测试仪 hms-5300lth,温度范围：80k-573k,测量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半导体薄膜(p 型和 n 型)；
更新时间:2025-10-11
英国quorum q150t plus 镀金镀碳一体机，是一款优化设计的带涡轮分子泵抽真空的镀膜设备，真空度可达5x10-5mbar。可以溅射具有超细成膜颗粒的易氧化金属，适用于高分辨率成像。同样地，低散射可得到均匀而致密的无定形碳膜。
更新时间:2025-10-11
suss苏斯/休斯，evg, oai等系列光刻机用曝光灯hbo系列，suss苏斯，evg, oai公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机，目得到业界的广泛认同，该系列光刻机曝光系统的曝光灯，主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列，具备良好的光通量，稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。
更新时间:2025-10-11
adlema先进的检漏机bt4000技 术 规 格• 尺 寸 :270x200x300mm• 重 量 :8kg• 电 源 输 入 :24 vdc• 管 径 :4x2, 6x4, 8x6, 10x8
更新时间:2025-10-11
美国kla insem ht原位高温纳米力学测试系统，纳米压痕仪，样品加温可达800 ℃，样品尺寸可达10mm，装样系统与真空环境兼容
更新时间:2025-10-11
德国yxlon多用途高分辨率ct系统ff35 ct,微焦点、纳米焦点双射线 源配置，大限度提高多 功能性 • 单或双射线源配置，可大限度提高 ct 应用 多功能性
更新时间:2025-10-11
jbx-8100fs 圆形电子束光刻系统· 最新高精密jbx-8100fs圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
更新时间:2025-10-11
nanoarch p130是科研3d打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间:2025-10-11
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新时间:2025-10-11
30型uv光源是高效的，可用于各种应用。光由椭圆形反射器收集并聚焦在积分/聚光透镜阵列上，以在曝光平面产生均匀的照明。这种紫外光源提供多种光束尺寸，最大24英寸平方，输出光谱范围从220 nm到450 nm，使用适当的灯（包括）。输出功率范围从200瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配备快速更换过滤器组件，使用户能够轻松定制输出光谱。可选配远程排气风扇。
更新时间:2025-10-11
oai 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使oai成为光刻设备行业的导者。 200型是台式面罩对准器，需要小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统，衬底快速平稳地平整，用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。
更新时间:2025-10-11
2012sm型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动foup装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
更新时间:2025-10-11
2012sm型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动foup装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
更新时间:2025-10-11
两种型号的2000型曝光系统包括uv光源，强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 uv光源提供发散半角<2.0％的可调强度光束。电源从200w到2,000w。强度控制器传感器直接连接到光源，用于精确的强度监控。机器人衬底处理系统是微处理器控制的，并且可以被编程以适应各种各样的衬底尺寸。
更新时间:2025-10-11
oai 5000e型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，顶，亚微米对准和分辨率。 其灵活的设计允许在各种基材（圆形或方形）上印刷高达300mm或20“×20”。 曝光系统兼容近，中，或深紫外范围的光刻胶，并具有计算机控制的led显微镜照明，在不太理想的观察环境中观察。
更新时间:2025-10-11
phabler 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司拥有突破性的phable 曝光技术，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很好。
更新时间:2025-10-11
raith 150 two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
更新时间:2025-10-11
raith 150 two可实现亚5nm的曝光结构，可处理8”晶元及以下样片。环境屏蔽罩保证了系统的热稳定性，提高设备对实验室环境的容忍度，即使在相对糟糕的实验室环境下，也能保证系统的正常稳定运行。
更新时间:2025-10-11
德国raith voyager 新一代超高分辨率电子束光刻机,系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标，可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩，即使在稍差的实验室环境下，仍然能确保系统具有非常好的热稳定性，提高系统对外界环境的容忍度。
更新时间:2025-10-11
ebpg5150使用了155mm大小的样品台，采用跟ebpg5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新时间:2025-10-11
日本rion粒子计数器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子数浓度：10000颗/l （误差值低于5%）,可检测从纯水到氢氟酸各种各样的液体。
更新时间:2025-10-11
日本rion气体粒子计数器：kc-32 ( 光散射法）测试粒径（6个通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新时间:2025-10-11
日本rion气体粒子计数器：kc-20a ( 光散射法）,测试粒径（5个通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新时间:2025-10-11
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