真空晶圆退火炉 半导体陶瓷
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品牌名称：$brandModel.Title型号：Huace-1200G 原产地：中国大陆 更新时间：2026/9/28 13:32:24
产品摘要：真空晶圆退火炉是在真空环境下，对半导体晶圆进行高温热处理的设备，主要用于消除应力、优化材料结构、增加电学性能。
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真空晶圆退火炉 半导体陶瓷
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温度范围：RT~800/1200/1450°C
升温速度：＜100℃/s可编程（此温度不含载盘的升温速度）
＜25℃/s（SiC载盘）
温度均匀度：±5 °C（≤ 500 ℃）
±1 %（> 500 ℃）
温度控制重复性：±1 °C
温控方式：PID 温控
Beijing Hua Ce Testing Instrument Co., Ltd.
热门标签：真空晶圆退火炉,半导体陶瓷退火炉,晶圆真空退火设备
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