烤箱整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有超温停止加热功能，控制可靠，使用安全。

精密循环风烤箱，半导体硬烘烤箱特点

1、全周氩焊，耐高温硅胶迫紧，SUS304＃不锈钢电热产生器，防机台本身产生微尘；

精密循环风烤箱，半导体硬烘烤箱用途

烤箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IC、医药、实验室等生产及科研部门。
也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其它高温试验。

精密循环风烤箱，半导体硬烘烤箱技术参数

1、名称：精密循环风烤箱

2、主要技术指标：

2.1温度范围： RT（室温）+10～300℃；

2.2温度偏差：≤±2.0℃；

2.3升温速度：≥4℃/min，室温至200度大约50分钟；

2.4工作尺寸：W450×H450×D450mm；

2.5电源：AC220V 50HZ 3.5KW ；

3、箱体结构：

3.1箱体材料：外箱采用优质冷轧板烤漆；

3.2内室材料：采用SUS304＃无磁性镜面不锈钢；

3.3保温材料：超细玻璃棉；

3.4排 气 口：ф50；

3.5 隔 板：2层，不锈钢冲孔，承重约30KG；

3.6空气循环装置：轴流电机；

3.7加热方式：不锈钢电加热器；

4、温控系统

4.1温度测量传感器：Pt100 铂电阻；

4.2控制仪表：日本富士温度控制器，PID调节，控制精度0.1℃；

4.3超温保护仪表：独立于工作室主控制的超温保护系统，保证试验品的安全；

4.4 具有独立的计时器，计时开关，计时报器

HMDS真空烘箱，HMDS镀膜烘箱的用途：
HMDS真空烘箱，HMDS镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。

HMDS真空烘箱，HMDS镀膜烘箱的特点：

1、安全性高、更加环保，HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染。

2、hmds熏蒸机效率高，液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达8盒（4寸）的晶片，甚至更多

3、预处理性能好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-160℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。

4、均匀性好，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。

5、hmds烘箱更加智能化，智能型的程式设定，一键完成作业。HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。当HMDS液位过低时发出报警提示。

HMDS真空烘箱，HMDS镀膜烘箱的技术规格：