半导体光刻烤箱，晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。箱内空气封闭自循环。经耐高温高效空气过滤器过滤，使烘箱工作室内处于无尘状态。洁净烘箱工作室为光亮型全不锈钢结构。工作室内温度采用智能式数显温度控制仪进行自动控制P.I.D调节,数显时间控制,并设有断路及超温报警,操作方便,使用安全。
半导体光刻烤箱，晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱可满足电子电器、医药、实验室等生产及科研部门中净化干燥。特殊要求温度可达350℃-400℃并且可加装氮气进出口。

半导体光刻烤箱，晶圆涂胶烤箱、光刻涂胶用烘箱技术参数：

1．内部尺寸：600*500*750（mm） （内尺寸可选择）

2．内箱分层：三层

3. 温度范围：RT＋10℃～300℃。

4．温度波动：<±1℃。

5．温度均匀：±2%（空载测试）。

依测规范：测SENSOR置放点，离内箱壁内尺寸1／10处。

6．温控装置：高精度P.I.D智能温控仪表， LED数字显示及设定、P.I.D自动演算、时间定时。

温控输出：SSR输出，品牌继电器，固态继电器。

测温装置：1支PT100 铂 电阻温度传感装置，测温精确。

气体控制装置：高效过滤气体中微粒。

7．内室材料：采用无磁性镜面不锈钢；外箱采用 SS41# 中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆，可防止微尘(PARTICLE) 。

8．保温材质：硅酸铝。

9．特质复合式SUS304＃不锈钢电热产生器。

保护装置：超温保护器，无熔丝开关。