目前光刻涂胶工艺中,绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。在实际使用过程中,疏水基虽然可以很好地与光刻胶结合,但是由于硅片和光刻胶之间黏性的增强,对没有预湿功能的轨道来说,会在涂胶过程中出现涂胶不全的现象,需要增加胶量来克服。而光刻胶的成本昂贵,如何达到工艺稳定和成本降低的平衡是一个重要的问题。

HMDS预处理系统，HMDS烤箱技术参数：

电源电压：AC 220V±10%/50Hz±2%

输入功率：2400W

控温范围：室温+10℃-250℃

温度分辨率：0.1℃

温度波动度：±0.5℃

达到真空度：133Pa

容积：90L

工作室尺寸（mm）：450*450*450

载物托架：2块

时间单位：min

HMDS预处理系统，HMDS烤箱统特点：

1、 采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

2、 箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

3、 微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。

4、 智能化触摸屏控制系统配套进口PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。

5、 HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。

6、 整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。