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上海隽思实验仪器有限公司

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高温真空无氧烤箱JS-GYZF040,隽思无氧烘箱

  • 参考价:咨询
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  • 品牌: $brandModel.Title
  • 所属地区:中国大陆
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  • 产品摘要:高温真空无氧烤箱JS-GYZF040,隽思无氧烘箱用于PI/BCB/LCP/PBO光刻胶固化、厌氧烘烤、MEMS生产、高温退火等工艺,适用于半导体、电子、新材料等研发,生产。常用于科研单位,高校实验室,工厂生产线等场所。

服务

  • 品质保障·资金安全·售后无忧

产品完善度:

更新时间:2026/10/21 11:19:22关注度:1398

关键词标签:高温真空无氧烤箱JS-GYZF040,隽思无氧烘箱

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高温真空无氧烤箱JS-GYZF040,隽思无氧烘箱的用途

隽思无氧烘箱用于PI/BCB/LCP/PBO光刻胶固化、厌氧烘烤、MEMS生产、高温退火等工艺,适用于半导体、电子、新材料等研发,生产。常用于科研单位,高校实验室,工厂生产线等场所。

微电子器件的钝化层和缓冲内涂层、多层金属互联电路的层间介电材料、光电印制电路板基材。

BCB是具有优良的热稳定性、化学稳定性、电绝缘性和机械强度的高性能材料。在现代高技术域有非常重要的应用。例如在微电子制造中,用作各类器件钝化防护和层间介电等。

PBO化学纤维是用液晶纺丝PBO聚合物制成的高性能化学纤维。在强度、比模量、耐热性、阻燃性等方面具有独Te性能。

液晶高分子(LCP)是指在一定条件下能以液晶存在的高分子,其特点为分子具有较高的分子量且具有取向有序。LCP性能优异、介电损耗低,有望在5G高频信号传输中加速应用

高温真空无氧烤箱JS-GYZF040,隽思无氧烘箱工艺要求

无氧烤箱固化工艺步骤:

设备内部达到低氧真空状态下

1.低温预热

2.线性升温至中温阶段

3.中温阶段恒温

4. 线性升温至高温阶段

5.高温阶段恒温

6.降温

无氧固化设备​性能要求:

温度范围: RT+30~350℃;
升温速度:0-5℃/min,线性升温;
降温方式:辅助降温
氮气控制:氮气流量可控
氧含量检测:氧浓度实时检测,小于50ppm
工作尺寸:W350×H350×D350,可定制

真空度:可达1torr

真空泵:无油泵







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