高纯氧化铝研磨高剪切研磨机CMD200010
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品牌名称：$brandModel.Title型号：CMD200010原产地：中国大陆 更新时间：2026/10/19 9:21:21
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详细内容
氧化铝研磨分散机的设备技术越来越高，可以生产1微米以下的氧化铝。纳米氧化铝透明液体XZ-LY101体颜色无色透明。该纳米氧化铝透明分散液中使用的是5-10纳米的氧化铝，该氧化铝是纳米氧化铝经过层层深加工筛选出来的氧化铝，添加到各种丙烯酸树脂，聚氨酯树脂，环氧树脂，三聚氰胺树脂，硅丙乳液等树脂的水性液体中，添加量为5%到10%，可以提高树脂的硬度，硬度可达6-8H，*透明，该纳米氧化铝液体可以是水性的或者油性的任何溶剂，同时可以做各种玻璃涂层材料，宝石，精密仪器材料等。
氧化铝陶瓷隔膜浆料分散机可以为氧化铝粉的生产工业中产生大量的尾矿和赤泥对环境的影响非常大，铝土矿作为*资源， 其保障程度直接制约着一个地区氧化铝工业的总量与生存周期。因此，各政府和有关部门，必须准确把握氧化铝工业的发展形势，资源与环境制约状况和基本规律，按照总量控制的要求，严格控制新建氧化铝项目，坚决制止盲目发展和低水平重复建设，努力实现氧化铝工业发展与资源充分利用，优化生态环境相统一。
高纯氧化铝研磨分散机,氧化铝均质分散乳化机,氧化铝水性浆料分散机
设备参数
• 连续分散机
• 优化分散头 2G, 4M, 6F，8SF
• 可选分散头
• 内表面 Ra 0,8-1,2
• 选项:
– 双层外罩
– 不同的法兰盘，例如DIN 11851, DIN 2633 , 三向夹扣, ANSI #150 法兰盘
– 不同的选择材料
– 内外表面抛光 Ra 0,8 (pharma)
– 与PLC相同的泵叶片
• 辅助部件:虑网, 套管
• 电子控制
99.995%高纯氧化铝系列主要用于LED人造蓝宝石晶体，高陶瓷，PDP荧光粉及一些高性能材料。作为蓝宝石晶体原料，根据不同的要求可提供粉体，颗粒，块状或者柱状等类型。德国IKN技术可以为氧化铝工业带来重要性的生产发展
IKN氧化铝高剪切均质乳化机应用于各种物料的超细粉碎，如农药、医药、炭黑、白炭黑、AC发泡剂、复印墨粉、荧光粉、锆英砂、氧化铝、氧化锆、碳酸钡、涂料、石墨、塑料盒橡胶用各种填充剂、非金属矿，以及各种高价值营养品、珍珠粉、花粉等。随着高科技产业的发展，对各种物料的超细粉碎要求的提高，还会应用到更加广阔的域。
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IKN氧化铝均质分散研磨机的技术参数：
| 高速研磨机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
| CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
| CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
| CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
| CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
| CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。
从设备角度分析，影响研磨效果的因素：
1 磨头的形式（卧式和立式）
2 磨头的剪切速率
3 磨头的齿形结构（见磨头结构）
4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间
5 循环次数
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，研磨速率取决于以下因素：
-
磨头的线速率
-
在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
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