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蠕虫石墨烯研磨分散机,蠕虫石墨剥离设备CMSD200010
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详细内容
研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或冲击力(impactforce)将粉体由大颗粒粉碎剥离成小颗粒。
分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒完全被分离(separating)、润湿(wetting)、分布(distributing)均匀及稳定(stabilization)目的。
研磨:利用剪切力、摩擦力或冲击力(将粉体由大颗粒粉碎剥离成小颗粒。
分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒完全被分离、润湿,分布均匀及稳定目的。
分散是实现碳材料应用的重要提之一,对于石墨烯类材料尤为重要,一方面,石墨烯神奇的性能是纯石墨烯单片尺度上的性能,聚集或不适当改性的石墨烯部分或全部失去了那些神奇的性能;另一方面,制备工艺过程对可操作性、可加工性(如旋图)要求将石墨烯分散在水或有机溶剂中。
而由于π-π耦合、范德华力和高比表面积,石墨烯会发生不可逆的团聚现象,甚至重新排列回石墨结构,导致制备石墨烯的稳定分散十分困难,目来看,石墨烯的分散还有很多基本问题有待解决。
一、石墨烯分散是实现产业化的必经之路
石墨烯产业化应用研究逻辑进程
如上所示,石墨烯产业化要解决两个基本问题:
一是石墨烯的制备技术,即在合理价格得到具有接近理论性质的石墨烯产品,现石墨烯工业化产品性能参差不齐,远达不到理论水平;
二是石墨烯的分散技术,即不损害石墨烯结构与性能的高度分散方法。
只有上述两个问题得到有效解决,石墨烯价值才能在商业上实现。
二、石墨烯分散需要解决六大基本问题
? 石墨烯分散的挑战性先源于对石墨烯深度分散的必然要求,将石墨烯分散到单片或初粒子状态;
? 源于石墨烯对通过化学改性实现分散这一手段的低容忍性甚至抵触性;化学改性,势必干扰或一定程度上破坏π-π的完整性,从而降低或失去本征态石墨烯的性能;
? 源于石墨烯本身既不亲水又不亲油的结构特征;一般的分散剂分子又较难与石墨烯形成较强的物理吸附作用,所以使用表面活性分散石墨烯的物理手段也将受限;
? 源于石墨烯的π-π结构和强的范德华力,使石墨烯易团聚,而且团聚体难以再分开;
? 还源于石墨烯的长径比和比表面积;
? 石墨烯的分散还面临着实际生产操作性方面的难题。例如,4%浓度的水型石墨烯浆料已是膏态,不具有流动性,这为生产过程中物料传输、分散和化学反应造成了困难。
备等:化工、卫生I、卫生II、无jun 电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、 电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ 电机选配件: PTC 热保护、降噪型 研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷 研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车 研磨分散机表面处理:抛光、耐mo处理 进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍 研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
| 研磨分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到#大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
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