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纳米透明色浆的研磨和分散,纳米透明色浆研磨分散机
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详细内容
纳米透明色浆的研磨和分散,纳米透明色浆研磨分散机, 转速可达14000RPM,是普通分散机转速3~5倍,所以分散效果远远好于普通设备。
纳米透明色浆的研磨和分散
纳米色浆:
1.当色浆中的色粉颗粒被研磨至纳米细度的时候,色浆就变透明了;
2.透明色浆鲜艳透亮,饱和度高,着色强度高,但是色准却很难把控。
随着色粉粒径缩小,其色相也会发生偏移(一般为红相偏移)。比如小粒径的炭黑色粉黑度更高,呈红相;大粒径的炭黑色粉黑度低一点,但会呈现出比较高档的蓝相。如果就是想要透明的蓝相黑,就必须要突破材料本身物理化学性质的限制。
所以,色粉研磨不是追求致的细度,而是追求恰到好处的“研磨平衡点”,而能够做到这一点的厂商屈指可数。
难在哪里?我们先从颜料重要的分散性能说起。
研磨
研磨就是将色粉磨细,通过较细的粒径提高色浆的分散性能,同时改善色浆的色彩特性(比如透明高亮)和使用性能(比如提高着色力强度)。
色粉颗粒经过精细研磨后,其展色性能有一定的提升。随着研磨时间的延长,色浆在清漆中的透明性以及颜色饱和度均逐步提升。
但是,要做到“恰到好处的研磨平衡点”,对研磨分散的设备和工艺控制都是很大的挑战。
纳米色浆通过其特殊工艺将普通颜料粒子纳米化,从而使终产品实现水性化和浆料化,赋予其特殊的物理特性。这些特殊物理特性可改善色浆的着色强度、色光、耐侯性、透明性、鲜艳度及状态稳定性等。
部分色浆还能实现普通颜料无法比拟的分散性,如氧化铁纳米红色颜料,在纳米尺度上消除了由磁性吸引力引起的絮凝现象,从而实现了优异的抗絮凝性和稳定性。
分散技术
被研磨到纳米尺寸的颜料颗粒如何防止再团聚?这是一个很大的考验,而企业通过其特有技术,解决了这个难题。
以塑料着色为例。当在塑料基材上着色时,由于颜料一般处于离子凝集状态(二次凝集体),很难均匀扩散到塑料基面上,因此无法呈现颜料原有的着色力和鲜艳发色。
从颜料选择时就综合考虑了设计配方、加工条件和分散加工设备等各方面的因素,以达到佳分散稳定效果。
高速研磨分散机, 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力(可有泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,通过高速研磨分散机定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。
影响研磨分散结果的因素有以下几点:
1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨分散腔体的停留时间,研磨均质时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
CMSD2000系列研磨分散机参数选型表
| 研磨分散机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
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