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PECVD 气相沉积系

PECVD 气相沉积系

点击次数:524

价格:¥1000

更新日期:2026/9/1 12:21:36

生 产 地:欧洲

产品型号:PECVD

简单介绍:仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。

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详细内容

德国SENTECH公司 PECVD 气相沉积系统---上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州

SENTECH仪器(德国)有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器(光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪)、光伏测量仪器(在线和离线测量工具)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统)。
仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。

NOVTEC寓意“科技创新”,即诺威特测控科技有限公司,在德国、日本设有代表处,多年来致力于将世界著名品牌的高科技产品带给中国及亚洲的广大用户,并为客户提供完善的售后服务,协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利,专业从事工业测量与测试产品的销售与研发,拥有产品研发中心、研究院和生产工厂,技术力量雄厚。

产品简介

SI500D突出优点是采用平板三螺旋天线PTSA电感耦合等离子体ICP源和背部有氧气冷却系统的下电极,最大样片直径8吋。ICPECVD感应耦合等离子增强化学气相沉积系统SI500D满足高端工艺要求,适用于器材的生产和研发应用。SI500D在基于硅烷的沉积工艺中具有出色的性能。

SI500PPD是标准的PECVD系统,配置带干泵的预真空室,真空反应腔配置罗茨泵和涡轮分子泵。
Depolad200是经济型的PECVD系统,具有模块化设计、工艺灵活和操作简便的特点,样片直接放置。刻逐步进行真空系统、供气系统的升级,以满足更高的工艺要求。

型号

SI500D

ICPECVD沉积系统

室温~350℃

SI500PPD

PECVD沉积系统

带预真空室

200℃~350℃

Depolab200

PECVD沉积系统

不带预真空室

200℃~400℃

具体型号及技术要求欢迎来电咨询

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苏州诺威特测控科技有限公司

Add:中国苏州市高新技术开发区金枫南路198号

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E-mail:info@novtec.hk

http://www.novtec.hk

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