ICP等离子 RIE反应离子刻蚀机

德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机－－－－-上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州

SENTECH仪器（德国）有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器（光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪）、光伏测量仪器（在线和离线测量工具）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统）。
仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。

NOVTEC寓意“科技创新”，即诺威特测控科技有限公司，在德国、日本设有代表处，多年来致力于将世界著名品牌的高科技产品带给中国及亚洲的广大用户，并为客户提供完善的售后服务，协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利，专业从事工业测量与测试产品的销售与研发，拥有产品研发中心、研究院和生产工厂，技术力量雄厚。

产品简介

SI 500为研发和小批量生产应用提供先进的ICP刻蚀工艺，具备高度的灵活性和模块化设计特点,可实现范围广泛的刻蚀工艺。包括刻蚀III-V化合物、II-VI化合物、介质、石英、玻璃、硅和硅化合物等。

SI 500C低温ICP刻蚀机，可在-100℃左右的低温下实现深硅刻蚀。优点是刻蚀后形成非常光滑的侧壁，尤其在光学应用上非常重要。同时低温刻蚀工艺的高刻蚀速率可实现刻穿样片。

SI 591 采用模块化设计、具有高度灵活性，适用于III-V 化合物、聚合物、金属盒硅刻蚀工艺，可配置为单反反应腔系统、或带预真空室或片盒站的多腔系统。特别适用于采用氟基气体的工艺，具有很高的工艺稳定性和重复性。

型号

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