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高速版支持扫描/步进双模式无掩模光刻机
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价格：￥电议
更新日期：2025/11/14 11:09:11
生 产 地：中国大陆
产品型号：TTT-07-UV Litho-S+
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相关标签：无掩模光刻机,光刻机,无掩模紫外光刻机
详细内容
TTT-07-UV Litho-S+高速版无掩模光刻机，是专为高精度、高效率制造而设计的设备，其在微电子、微光学、生物医学等领域具有广泛的应用潜力。
特征尺寸0.5µm：TTT-07-UV Litho-S+无掩模光刻机的特征尺寸达到0.5µm，这一极高的精度使得设备能够加工出极其细微的图案和结构，满足了制造领域对精密度的要求。在微电子器件、高密度电路板、精密光学元件等制造过程中，这样的精度是实现高性能和功能的关键。
8英寸光刻面积：设备支持最大8英寸（约200mm）的光刻面积，这使得TTT-07-UV Litho-S+能够处理较大尺寸的基板，提高了生产效率。大尺寸光刻面积不仅适用于批量生产，还能满足大型器件或复杂结构的一体化制造需求。
支持扫描/步进双模式：TTT-07-UV Litho-S+具备扫描和步进双模式，为用户提供了更多的灵活性。在扫描模式下，光刻头以连续扫描的方式曝光，适合于大面积均匀曝光的快速生产；而在步进模式下，光刻头按照预设的步进距离进行逐点曝光，适合于高精度和小面积的特殊图案加工。这种双模式设计使得设备能够适应不同的生产需求，提高了光刻工艺的多样性和适应性。
无掩模光刻机：TTT-07-UV Litho-S+采用无掩模光刻技术，消除了传统光刻过程中对掩模版的依赖，从而降低了成本并提高了设计的灵活性。无掩模光刻技术允许即时设计修改，缩短了产品从设计到成型的周期，特别适合于研发和小批量生产环境。
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