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托托科技 UV Litho-S+无掩模光刻机
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价格：￥电议
更新日期：2026/8/14 13:40:35
生 产 地：中国大陆
产品型号：TTT-07-UV Litho-S+
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相关标签：无掩模光刻机,激光直写,无掩模光刻
详细内容
光刻机又名掩模对准曝光机，是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路，将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上，从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。
根据光刻机的曝光方式，主要可以分为接触式光刻机、接近式光刻机和直写式光刻机，其中直写式光刻机又可以依据其是否需要使用掩模版细分为有掩模和无掩模两种。无掩模光刻机是一种不需要使用传统掩模版的光刻机，它通过直接对晶圆进行曝光，实现图案的转移，能够更快速地制造特定产品、降低成本，除了能够满足传统的2D光刻需求外，还能实现2.5D光刻（即灰度光刻）。无掩模光刻机不需要掩模版、高度灵活的优点，使其被广泛应用于科学研究、定制化生产、快速原型制造、电子器件、生物医药、光学元件、微机械等领域。
Speed系列是高速版的无掩模版紫外光刻机，其配备了高速空间光调制器以及高功率紫外激光器。这一系列的光刻机不仅保证了高精度和高灵活性，更在这一基础上，拥有了更高的光刻效率。其独特的性能特点使其特别适合小批量生产的场景。在该场景中，它能够发挥出其高效的优势，为生产带来更高的效率和更好的质量。Speed 系列为相关产业提供了更优质的选择，满足了市场对于高效率、高质量生产的需求。
s+无掩模光刻机产品亮点：
特征尺寸0.5µm
8英寸光刻面积
支持扫描/步进双模式
无掩模光刻机
无掩模光刻机,激光直写,无掩模光刻
