晶圆薄膜厚度测量仪、硅片薄膜厚度测量

晶圆薄膜厚度测量仪、硅片薄膜厚度测量

晶圆薄膜测厚/晶圆涂层膜厚仪/晶圆涂层膜厚仪/硅片薄膜厚度测量/晶圆涂层膜厚仪/纳米级薄膜测厚仪

测量厚度、折射率、反射率和穿透率：

- 单层膜或多层膜叠加

- 单一膜层

- 液态膜或空气层

不同条件下的测量，包括：

- 在平面或弯曲表面

- 光斑最小可达20微米

- 桌面式、XY坐标自动化膜厚测量，或在线配置

1、规格参数

2、配件选用指南

光斑配件选用、光源选用（测量波段选择）

3、原理简介

白光干涉，紫外波段——红外波段

4、应用

可测量单层、多层薄膜

半导体膜层 液晶显示器

光刻胶 OLED

加工膜层 玻璃厚度

介电层 ITO和TCOs

光学镀层 生物医学

硬涂层 聚对二甲苯

抗反射层 医疗器械

客户常用于测量、硅片（单晶硅）衬底沉积的氧化硅（SiO2）、非晶硅（a-Si）、多晶硅（p-Si）、氮化硅（Si3N4）、碳化硅（SiC）、光刻胶（高分子化合物）、非金属化合物、金属涂层（眼镜镜片涂层）、无机非金属膜层（用于半导体行业如液晶面板、芯片制造工艺）等等。

5、服务项

样机试用、样品代测、工程师售前售中售后全方面技术支持。