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杨占强 郑洪国

相比普通化学品，高纯电子化学品对于离子分析提出了更高要求。

分析过程中通常需要面对以下几个难题：

• 检测限要求越来越低，需达到 ppb 甚至 ppt 水平；

• 酸、碱及有机溶剂等复杂基体容易干扰分析结果；

• 离线前处理步骤繁琐，容易引入污染；

• 企业希望实现自动化分析，提高实验室效率和数据一致性。

如何兼顾超低检测限、复杂基体处理能力以及自动化分析，成为电子材料检测实验室面临的重要挑战。

对于高纯电子化学品而言，复杂的样品基体，是影响分析难度的最大因素。高浓度酸、碱以及有机溶剂等基体，不仅会影响目标离子的分离效果，还可能缩短色谱柱寿命，增加人工前处理步骤，甚至引入额外污染。

针对这一挑战，赛默飞谱睿在线前处理技术将在线基体去除、在线富集浓缩、智能阀切换以及离子色谱分析集成为一体，实现复杂样品的全流程自动化分析，为高纯电子化学品检测提供更加稳定、高效的解决方案。

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相比传统离线前处理，谱睿在线前处理具有以下优势：

OK73稀释剂是先进光刻工艺的重要配套化学品，广泛应用于半导体制造过程。由于样品有机基体复杂，传统检测方法容易受到基体干扰，影响痕量阴离子的检测结果。

采用 ICS 6000 结合谱睿在线前处理技术，可自动去除OK73稀释剂中的有机基体，并对痕量阴离子进行在线富集，实现多种常见阴离子的稳定分离和高灵敏检测。

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随着先进封装和精密清洗技术的发展，氢氟醚（HFE）已广泛应用于电子级清洗和冷却领域。针对其挥发性强、有机基体复杂等特点，ICS 6000 结合谱睿在线前处理技术，可有效去除样品基体，实现F⁻、Cl⁻等痕量阴离子的稳定检测，整个流程自动完成，兼顾检测灵敏度、重复性和分析效率。

四甲基氢氧化铵（TMAH）是半导体显影工艺的重要化学品。由于TMAH属于高浓度碱性体系，空气中的CO₂极易溶解形成碳酸根，影响产品质量，因此碳酸根成为关键监测指标。

赛默飞采用在线中和技术结合氢氧根梯度洗脱，可在高浓度TMAH基体中实现碳酸根及其他常见阴离子的稳定分离。

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