在芯片不断迈向更高集成度与更小制程节点的今天，很多人关注光刻机、材料和设计，却往往忽略了一个关键角色——电子特气。从刻蚀、沉积到清洗，每一道核心工艺都离不开高纯气体的参与。而哪怕是ppb甚至ppt级别的微量杂质，都可能带来器件缺陷、良率下降，甚至整批报废。

👉 这就是为什么——电子特气的“纯度控制”，已经成为先进制造的核心竞争力之一。

在CO₂应用中，微量Cl⁻、NO₃⁻、SO₄²⁻等阴离子杂质，可能引发腐蚀或缺陷问题。

✔ 赛默飞IC可实现超低浓度阴离子精准检测

✔ 搭配气体吸收方案，轻松应对复杂基体

👉 让每一份CO₂，都经得起高端工艺考验

氢气本身纯净，但系统引入的微量离子污染，却难以察觉。

✔ IC结合气体捕集技术及Cindion燃烧离子色谱新技术引入，实现痕量离子检测

✔ 可覆盖HCOO⁻、NH₄⁺、Cl⁻等关键污染物

👉 提前发现风险，避免“看不见”的良率损失

作为沉积核心前驱体，SiH₄对杂质极其敏感。

✔ IC可实现多种离子杂质同步分析

✔ 支持超痕量检测，满足先进制程需求

👉 为高质量薄膜沉积提供可靠数据支撑

赛默飞离子色谱，不只是仪器，更是电子特气质量管理的长期伙伴。