CVD化学气相沉积系统，专为工业镀膜与新材料研发设计，通过控温、气路配比，实现各类金属膜、陶瓷介质膜、硬质耐磨膜、金刚石薄膜的高质量沉积。解决传统镀膜不均匀、附着力差、耐高温性弱、使用寿命短等行业痛点，具备镀膜致密性高、重复性好、适配基材广、可规模化量产等核心优势，适配多行业标准化生产与定制化工艺研发。

核心应用领域

1. 半导体与微电子：用于芯片介质层、钝化层、金属互连层沉积，适配IGBT、MOSFET、MEMS器件生产，提升芯片绝缘性与运行稳定性。

2. 光伏新能源：适配TOPCon、HJT晶硅电池、钙钛矿电池镀膜，制备减反、钝化薄膜，有效提升光电转换效率。

3. 刀具模具工业：沉积TiN、TiCN、Al₂O₃硬质涂层，大幅提升刀具、压铸模具、冲压模具的耐磨性、耐高温性，延长设备使用寿命3-5倍。

4. 金刚石薄膜制备：可生长高品质CVD金刚石薄膜，用于高功率器件散热、光学窗口、精密刀具等场景。

5. 航空航天与医疗器械：制备高温防护涂层、防腐耐磨涂层、生物兼容DLC涂层，适配航空精密构件、医用植入器械、手术器械镀膜需求。

6. 科研光电：支持石墨烯、二硫化钼等二维材料生长，适配光学滤光膜、增透膜、光电器件钝化层制备，满足高校、企业研发实验需求。

产品核心优势

镀膜均匀性好、附着力强、耐高温耐腐蚀；工艺可调性高，兼容小批量研发与大批量量产；设备稳定性强、故障率低、运维成本低，适配制造产业链需求。