紧凑型、模块化和智能化CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。
特点和优点✬高性能离子溅射、蒸发镀碳和等离子处理✬有的自动碳源卷送设计–多达数十次碳镀膜，无需用户干预✬独特的即插即用溅射和蒸碳镀膜模块✬一流的真空性能和快速抽真空✬结构紧凑、可靠且易于维修✬双位置膜厚监控装置，可兼容不同尺寸的样品✬主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间
巧妙的真空设计CCU-010 LV精细真空镀膜系统为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计。模块化的设计可将低真空单元后续很轻松地升为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。
SP-010 & SP-011溅射模块两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元，即可使用。SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长，非常适合需要较厚膜的应用。 可选多种溅射靶材，适合SEM等导电薄膜应用。SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于细颗粒尺寸镀膜，推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV版本。SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时，推荐使用该溅射头。
CT-010碳蒸发模块紧凑的插入式碳蒸发模块为镀碳树立了新标杆。将该头插入CCU-010 LV镀膜主体后，即可立即使用，适合SEM等需要高质量碳膜应用的场合。CT-010使用欧洲有的、独特且技术先的碳绳卷轴系统，可以进行多达数十次涂层的镀膜，而无需更换碳源。一段碳绳蒸发后，新的一段会自动进，用过的碳绳会掉落到方便的收集盘中。除了易于使用外，自动卷轴系统还允许在一个镀膜循环内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。易于选择的镀膜模式可保障镀膜安全，从对温度敏感的样品进行温和的蒸镀薄膜到中厚膜层的高功率闪蒸镀碳。整合脉冲蒸发、自动启动挡板后除气及膜厚监控的智能电源控制提供了精确的膜层厚度，并可避免火花引起的表面不均匀。
GD-010辉光放电模块可选的GD-010辉光放电系统可快速安装，通过空气、氩气或其它用气体进行表面处理，例如，使碳膜亲水。本机可按顺序进行碳镀膜和辉光放电处理，无需破真空或更换处理头，大地简化了操作过程。本单元安装到CT-010，与所有样品台兼容。
HS-010真空储存箱HS-010真空储存箱可在真空条件下存放备用镀膜头、备用行星台或旋转台、所有溅射靶材和碳附件，使它们处于清洁状态。通过集成的真空管路与镀膜主体单元连接，利用CCU-010抽真空系统对储物箱抽真空。可选地，用户也可用外接真空泵替代。舒适的手动锁定装置和放气阀允许对储物箱进行独立的抽真空和放气控制。额外的标准真空腔室可有效地避免蒸碳和溅射金属之间的交叉污染。
ET-010等离子刻蚀单元在对样品进行镀膜之或镀膜之后，可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件，可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜清洁样品，增加薄膜的附着力。也可在样品镀碳后进行等离子处理，从而对碳膜表面进行改性。
Coating-LAB软件使用基于PC的Coating-LAB软件，可查看包括图表信息在内的处理数据。数据包括压力、电流、电压、镀膜速率和膜厚，镀膜速率为实时曲线。便捷的软件升和参数设置让此智能工具更为完美。
RC-010手套箱应用的远程控制软件◎基于window的远程控制软件◎创建和调用配方◎实时图表，包含导出功能（Excel、png等）◎自动连接到设备
可选多种样品台CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台，该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。
CCU-010 LV普通真空镀膜仪版本作为真空镀膜系统的基础单元，CCU-010 LV 为 SEM 和 EDX 的常规高质量溅射和/或碳镀膜而设计。客户可选择：CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪；CCU-010 LV热蒸发镀碳仪；CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪；CCU-010 LV手套箱用镀膜仪
SAMDRI-PVT-3D超临界干燥仪
先进的常规临界点干燥仪
临界点干燥原理之所以称为临界点干燥（又称超临界干燥），因为它存在状态的连续性，即介质在液态和气态之间无明显的区别，分界面的表面应力降到零。这种现象具有特定的温度和压力，被称为临界点。零表面应力这种条件可用于干燥生物样品或含水材料样品，避免了表面应力对试样的损坏。 我们在电子显微镜(扫描电镜透射电镜)的生物样品或含水材料样品制备时经常需要进行脱水处理（梯度脱水），但水的临界点为+374℃及3212 psi，很不方便并且容易损坏试样。通常也是非常方便的临界点干燥介质为CO2，它的临界点在+31℃及1072 psi。然而它不容易与水混合，因而必须用第三种介质，通常用乙醇或丙酮作为中间液体。这样在把过渡液体，即CO2 从液体转为气体时，在临界点无表面应力对样品的破坏。
特点和优点
❖ 紧凑的桌上型设备，占用空间小
❖ 通过微流量阀实现精确流量控制，游标刻度支持可重复的流量设置
❖ 便捷的顶装式工作腔室
❖ 带可视窗口，可观察腔室内部状态
❖ 装有颗粒过滤器，保护样品和阀门
❖ 内表面材质耐用于液态CO2和超纯乙醇环境
❖ 自动临界点温度-压力调节，确保系统安全
❖ 快速冷却腔室（室温下约1分钟）
❖ 可选配冷凝器，收集废弃乙醇，并消除置换排放时的噪音
主要技术规格
➢ 工作腔室直径：1.25"I.D.
➢ 温度测量范围：-30 °C to 60 °C
➢ 压力测量范围：0 to 2,000psi.
➢ 控温方式：全自动温度、压力控制
➢ 放气方式：微流量阀精确控制
常规配置
✓ 柔性编织不锈钢耐高压管，用于输送液态CO2
✓ 外部液态CO2过滤系统，可去除水/油及小颗粒
✓ 排气管，用于PURGE/VENT/BLEED和COOL时的排气
✓ 备用腔室O型密封圈、腔室灯和保险丝
注：美国Tousimis产品已有近50年的历史，在中国客户中的口碑非常好。覃思科技是其CPD超临界干燥仪中国区代理。Tousimis临界点干燥仪产品分为非洁净室版本和洁净室版本两大类，者常用于电镜制样，后者多用于超净间内的材料研究用途；
非洁净室版本共有7款CPD：
1）Samdri®-PVT-3D常规临界点干燥仪
2）Samdri®-795半自动临界点干燥仪
3）Autosamdri®-815 Series A全自动临界点干燥仪
4）Autosamdri®-815B Series A全自动临界点干燥仪
5）Autosamdri®-931_1.25"触摸屏全自动临界点干燥仪
6）Autosamdri®-931_2.50"触摸屏全自动临界点干燥仪
7）Autosamdri®-931_3.40"触摸屏全自动临界点干燥仪
洁净室版本共有9款CPD：
1）Autosamdri®-815 Series B全自动临界点干燥仪For Die & 1”Wafers
2）Autosamdri®-815B Series B全自动临界点干燥仪For 4”Wafers
3）Automegasamdri®-915B, Series B全自动临界点干燥仪For 6”Wafers
4）Autosamdri®-931_1.25"触摸屏全自动多用途临界点干燥仪
5）Autosamdri®-931_2.50"触摸屏全自动多用途临界点干燥仪
6）Autosamdri®-931_3.40"触摸屏多用途全自动临界点干燥仪
7）Autosamdri®-934触摸屏C系列全自动临界点干燥仪For 4”Wafers
8）Automegasamdri®-936触摸屏C系列全自动临界点干燥仪For 6”Wafers
9）Automegasamdri®-938触摸屏C系列全自动临界点干燥仪For 8”Wafers
美国Tousimis超临界干燥仪广泛适用于生物样品，凝胶等具有微纳米3D结构的脆弱复杂样品，以及MEMS、MOF、碳纳米管、石墨烯、半导体晶圆（大样品尺寸8英寸，一次同时干燥5片）等材料类样品的临界点干燥。利用CO2临界点状态无液相表面张力引起样品皱缩变形的原理获取具有真实形貌的干燥样品，是含水或其它液体的细胞组织等生物样品、半导体等材料样品干燥制样的有效方法；具有操作简便、控制精确、结果可重复等特点。其中，经典的SAMDRI®-PVT-3D和屡获殊荣的Autosamdri®-931高触摸屏全自动CPD等型号尤其令人瞩目。客户可基于不同的应用选择不同的型号。