BRC112E-U紫外优化CCD光谱仪
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CCD直读光谱仪适用于铁、铝、铜、锌、镍、钛、镁、钴等各种基体、合金材料中微量至高含量范围内的元素定量分析。广泛应用于冶金、铸造、机械加工等行业的来料检验、质量控制及出厂检验等。◆炉前快速分析 ◆产品质量鉴定 ◆材料验收检查
仪器概述
CCD全谱仪，石家庄全谱仪，CCD光谱仪
CCD直读光谱仪用于快速定量分析多种金属材料中的化学元素。仪器操作简单，维护方便，分析精度完全达到实验室要求，并可以在炉前环境下长期使用，稳定可靠。仪器采用帕型-龙格多CCD光学系统, 可分析元素的波长范围 从 140nm 到 680nm，满足金属行业中对常规元素的分析需求。先进的双光室设计，可实现对碳、磷、硫等短波长元素，特别是氮元素的分析。全谱接收技术，可实现根据用户需求增减分析元素，无需更改硬件。可进行多基体分析，配有完备的工厂校准曲线。用户可根据需要选配不同基体进行分析，如：铁、铝、铜、锌、镍、钛、镁、钴等。基于Windows系统的专业分析软件，功能完善，操作简便。完备的系统诊断和强大的数据库管理，可完全满足用户需求。先进全面的智能算法和光谱延时采集技术，可消除各种强背景和谱线间干扰，极大地提高了分析精度。高性能DSP及FPGA处理器可以对数据进行高速处理，大大缩短了分析时间。先进的可编程脉冲数字光源，可根据不同的分析样品配置最佳激发波形，有利于提高分析精度。同时，完善的激发保护系统，保证激发过程安全可靠。优化设计的氩气流路，有效降低了氩气用量，节约了成本。整机结构设计合理，便于快速安装和更换部件，减少了维护工作量。激发台的特殊设计可适应多种形状的样品。
仪器应用>适用于铁、铝、铜、锌、镍、钛、镁、钴等各种基体、合金材料中微量至高含量范围内的元素定量分析。> 广泛应用于冶金、铸造、机械加工等行业的来料检验、质量控制及出厂检验等。◆炉前快速分析 ◆产品质量鉴定 ◆材料验收检查
技术规格
CCD全谱仪，石家庄全谱仪，CCD光谱仪光学系统◆帕型-龙格结构◆多片高分辨率CCD探测器◆最大波长范围：140nm～680nm◆智能恒温控制激发光源◆可编程脉冲数字光源◆高能预燃技术◆最大放电电流：400 A◆放电频率：100Hz～1000Hz 分析软件◆图形化分析软件，专业、简洁◆完备的自动系统诊断功能◆完善的数据库管理功能分析程序◆工厂校准曲线分析程序 ◆可灵活选择分析程序◆可根据用户需求扩展分析功能样品激发台◆充氩式◆便于使用的样品夹具◆激发孔径13 mm 电源和环境要求◆AC220V±20V，50Hz◆火花激发时最大功率400 VA◆待机平均功率100 VA◆工作湿度：20%～80%◆工作温度：10°C～30°C尺寸◆726×622×546 mm◆重量：约80kgCCD全谱仪，石家庄全谱仪，CCD光谱仪
| 型号 | 波长 | 范围描述 |
| F型 | 140-680 nm | 双光室配置，更优的紫外分析能力和N元素分析扩展能力，可满足Fe,Al,Cu,Zn,Ni,Ti, Mg,Co等各种基体分析需求 |
| N型 | 170-680 nm | 双光室配置，更优的紫外分析能力，可满足Fe,Al,Cu,Zn,Ni,Ti,Mg,Co等各种基体分析需求 |
| S型 | 175-520 nm | 单光室配置，具备黑色金属分析能力，可满足Fe,Al,Cu,常规基体分析需求 |
Noble T7型全谱直读光谱仪可快速的对固体金属样品进行分析。无论从痕量元素，还是到高浓度的元素，它都能准确、可靠的分析，特别是深紫外区的非金属元素检测精度较高。杰博公司在行业内多年的积累，针对有大量金属分析需求的冶炼行业和实验室，设计了这款新的、性能优越的全谱直读火花光谱仪，可满足客户在冶炼、汽车、航空航天、消费品等众多行业的生产需求。
冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。
铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。
主要技术参数光学系统：帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围：140~680nm
光栅焦距：401mm
探 测 器：高性能CMOS阵列/CCD阵列
光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）
放电频率：100-1000Hz
放电电流：最大500A
工作电源：AC220V 50/60Hz 1000W
检测时间：依据样品类型而定，一般20S左右
电极类型：钨材喷射电极
分析间隙：4mm
其他功能：真空，温度，软件自动控制；压力，通讯监测
主要特点1. 高性能光学系统
采用高精度的CMOS元件可精确测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量；测定结果精准，重复性及长期稳定性极佳。
2. 自动光路校准
自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作；
仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。
3. 插拔式透镜设计
真空光学系统采用独特的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用插拔式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。
4. 真空防返油技术
多级隔离的真空防返油技术，采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离；中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。
5. 开放式激发台
开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析；配合使用小样品夹具，线材最低分析可达到3mm。
6. 喷射电极技术
采用国际最的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度；配上独特氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。
7. 集成气路模块
气路系统采用气路模块免维护设计，替代电磁阀和流量计，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。
8. 数字化激发光源
数字激发光源，采用国际最为的等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品；可任意调节光源的各项参数，满足各种不同材料的激发要求。
9. 高速数据采集
仪器采用高性能CMOS检测元件，具有每块CMOS单独超高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。
10. 以太数据传输
计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议，避免电磁干扰，光纤老化的弊端，同时计算机和打印机完全外置，方便升级和更换；可以远程监控仪器状态，多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。
11. 预制工作曲线
备有不同材质和牌号的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，方便安装调试和及时投入生产；根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动选择最优测试条件。
12. 分析速度快
分析速度快，仅需20秒即可完成一次分析；针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用最短时间达到最优的分析效果。
13. 多基体分析
光路设计采用罗兰圆结构，检测器上下交替排列，保证接收全部的谱线，不增加硬件设施，即可实现多基体分析；便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素（无硬件成本）。
14. 软件中英文系统
仪器软件操作简单，完全兼容于Windows7/8/10系统。
仪器特点
1. 采用多个CCD对可用范围内的光谱谱线进行全谱扫描
2. 激发能量、频率连续可调全数字固态光源，适应各种不同材料
3. 分析应用覆盖面广泛，与传统仪器相比，不受通道及基体限制
4. 单板式透镜架，擦拭时大大降低对光室的污染
5. 基于ARM9的仪器状态实时监控系统
6. USB采集，通用性更强
7. 固态吸附阱，防止油气对光室的污染，提高长期运行稳定性
8. 铜火花台底座，提高散热性及坚固性能
| 1. 巴邢—龙格架法，光栅焦距500 mm 2. 高发光全息光栅，刻线为2700条/mm 3. 谱线范围：160 ~ 800 nm 4. 色散率： 一级色散率：0.55 nm/mm 二级色散率：0.275 nm/mm 5. 分辨率：优于0.01 nm 6. 220V 单相 16A 2.5KVA 7. 尺寸：宽×深×高（78cm×50cm×45cm） 8. 净重约110Kg |