本仪器广泛的应用于透明,半透明或不透明物质。观察目标:大于3 微米小于20微米,比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹,都能有很好的成像效果。
二、技术指标
正交偏光装置
本仪器广泛的应用于透明,半透明或不透明物质。观察目标:大于3 微米小于20微米,比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹,都能有很好的成像效果。
二、技术指标
正交偏光装置
放大倍数 | 数值孔径 | 工作距离(mm) | 备注 |
5X | 0.12 | 9.70 | |
10X | 0.25 | 3.73 | |
20X | 0.40 | 7.23 | |
40X | 0.60 | 3.04 |
放大倍数 | 数值孔径 | 工作距离(mm) | 备注 |
5X | 0.12 | 9.70 | |
10X | 0.25 | 3.73 | |
20X | 0.40 | 7.23 | |
40X | 0.60 | 3.04 |