椭偏仪专场,椭偏仪商家多、资料全面第2组

光谱型椭偏仪

薄膜厚度范围：1纳米 – 8 微米；厚度分辨率为0.1纳米；测量速度： 5 – 15秒；重现性： cos(Delta) ±0.0003, tan(Psi) ± 0.0002 (Si上70纳米SiO2)；光谱范围： 450纳米 – 900纳米(其他波长范围可以选配)；角度： 70° (其他角度可以选配)；Mapping功能： 6”/12” 选配，度±10微米，光学编码全自动控制；光学显微镜：不同放大倍数选配；软件：一键厚度测量，易于使用，多等级用户管理，多种数学模型构建；

关于椭圆偏光法椭圆偏光法是基于测量偏振光经过样品反射后振幅和相位的改变研究材料的性质。光谱型椭偏仪在全部光谱范围内(而不是特定的波长)测量Psi和Delta，通过构建物理模型对数据进行拟合分析，最终得到膜厚、折光系数、吸收、粗糙度、组成比率等结果。

椭偏仪0820

　　在光谱椭偏仪的测量中使用不同的硬件配置，但每种配置都必须能产生已知偏振态的光束。测量由被测样品反射后光的偏振态。这要求仪器能够量化偏振态的变化量ρ。

　　有些仪器测量ρ是通过旋转确定初始偏振光状态的偏振片（称为起偏器）。再利用第二个固定位置的偏振片（称为检偏器）来测得输出光束的偏振态。另外一些仪器是固定起偏器和检偏器，而在中间部分调制偏振光的状态，如利用声光晶体等，最终得到输出光束的偏振态。这些不同的配置的最终结果都是测量作为波长和入射角复函数ρ。

　　在选则合适的椭偏仪的时候，光谱范围和测量速度也是一个通常需要考虑的重要因素。可选的光谱范围从深紫外的142nm到红外的33µm。光谱范围的选择通常由应用决定。不同的光谱范围能够提供关于材料的不同信息，合适的仪器必须和所要测量的光谱范围匹配。

　　测量速度通常由所选择的分光仪器（用来分开波长）来决定。单色仪用来选择单一的、窄带的波长，通过移动单色仪内的光学设备（一般由计算机控制），单色仪可以选择感兴趣的波长。这种方式波长比较准确，但速度比较慢，因为每次只能测试一个波长。如果单色仪放置在样品前，有一个优点是明显减少了到达样品的入射光的量（避免了感光材料的改变）。另外一种测量的方式是同时测量整个光谱范围，将复合光束的波长展开，利用探测器阵列来检测各个不同的波长信号。在需要快速测量的时候，通常是用这种方式。傅立叶变换分光计也能同时测量整个光谱，但通常只需一个探测器，而不用阵列，这种方法在红外光谱范围应用最为广泛。

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该公司产品分类：水电费

SpecEl椭偏仪SpecEl椭偏仪

SpecEl-2000-VIS椭偏仪通过测量基底反射的偏振光，进而测量薄膜厚度及材料不同波长处的折射率。SpecEl通过PC控制来实现折射率，吸光率及膜厚的测量。

集成的精确测量系统

SpecEl由一个集成的光源，一个光谱仪及两个成70°的偏光器构成，并配有一个32位操作系统的PC.该椭偏仪可测量0.1nm-5um厚的单膜，并且折射率测量可达0.005%。

SpecEl可通过电话问价。

SpecEl软件及Recipe配置文件

通过SpecEI软件，你可以配置及存贮实验设计方法实现一键分析，所有的配置会被存入recipe文件中。创建recipe后，你可以选择不同的recipe来执行你的实验。

SpecEI软件截图显示的Psi及Delta值可以用来计算厚度，折射率及吸光率。

配置说明

波长范围:	380-780 nm （标准）或450-900 nm （可选）
光学分辨率:	4.0 nm FWHM
测量精度:	厚度0.1 nm ; 折射率 0.005%
入射角:	70°
膜厚:	单透明膜1-5000 nm
光点尺寸:	2 mm x 4 mm （标准）或 200 µm x 400 µm （可选）
采样时间:	3-15s （最小）
动态记录:	3 seconds
机械公差（height）:	+/- 1.5 mm, 角度 +/- 1.0°
膜层数:	至多32层
参考:	不用

EMProEMPro 极致型多入射角激光椭偏仪

EMPro是针对高端研发和质量控制领域推出的极致型多入射角激光椭偏仪。

EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的绝对厚度测量。

EMPro采用了量拓科技多项专利技术。

特点：

原子层量级的极高灵敏度

国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级的极薄纳米薄膜，膜厚精度达到0.01nm，折射率精度达到0.0001。
百毫秒量级的快速测量

国际水准的仪器设计，在保证极高精度和准确度的同时，可在几百毫秒内快速完成一次测量，可满足单原子膜层生长的实时测量。
简单方便的仪器操作

用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高级测量设置。

应用：

EMPro适合于高精度要求的科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。
EMPro可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。
EMPro可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。

技术指标：

项目	技术指标
仪器型号	EMPro31
激光波长	632.8nm （He-Ne Laser）
膜厚测量重复性^（1）	0.01nm （对于平面Si基底上100nm的SiO₂膜层）
折射率测量重复性^（1）	1x10^-4（对于Si基底上100nm的SiO₂膜层）
单次测量时间	与测量设置相关，典型0.6s
结构	PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度）
激光光束直径	1mm
入射角度	40°-90°可手动调节，步进5°
样品方位调整	Z轴高度调节：±6.5mm 二维俯仰调节：±4° 样品对准：光学自准直和显微对准系统
样品台尺寸	平面样品直径可达Φ170mm
最大的膜层范围	透明薄膜可达4000nm 吸收薄膜则与材料性质相关
最大外形尺寸	887 x 332 x 552mm （入射角为90º时）
仪器重量（净重）	25Kg
选配件	水平XY轴调节平移台真空吸附泵
软件	ETEM软件： l 中英文界面可选； l 多个预设项目供快捷操作使用； l 单角度测量/多角度测量操作和数据拟合； l 方便的数据显示、编辑和输出 l 丰富的模型和材料数据库支持

注：（1）测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。

性能保证：

高稳定性的He-Ne激光光源、先进的采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度
高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准
稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合先进的采样技术，保证了快速、稳定测量
分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和绝对厚度的测量
一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间
一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

准确度测试：

在入射角40°~85°范围内对Si基底上SiO2薄膜样品椭偏角Psi和Delta测量值和理论拟合值如下图所示：

可选配件：

NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片
NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片
VP01真空吸附泵
VP02真空吸附泵
样品池

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