| | M SIZE | L SIZE | |
| P/Z/S | |||
| 图像型号 输入部分 | 摄像头 | 3CCD摄像头 | |
| 照明系列 | 环状LED(R.G.B) | ||
| 画像分辨率 | 10,15,20μm | ||
| 机构部分 | 传送方式 | 皮带传送方式 | |
| 生产线高度 | 900±15mm | ||
| 轨道宽频跳帧 | 自动调整 | ||
| 基板固定方式 | 外形固定 | ||
| 电源部分 | AC100/115V/120V/200V/220V/230V/240V±10%(单相) | ||
| 气压 | 0.4~0.6Mpa | ||
| 使用环境温度 | +10~ +35% | ||
| 使用环境湿度 | 35~80%RH(无结露) | ||
| 重量 | 约500kg | 约850kg | |
| 外形尺寸 | 700(w)×900(D)×1600(H)mm | 920(w)×1365(D)×1600(H)mm | |
1.产品特点●结构稳固可靠;●工作台面精密磨制、完全去除精加工痕迹、外形光滑精度高;●固体阻尼隔振;●台面选用优质钢材、蜂巢内核、钢性强不变形。
●特殊规格,特殊材料接收订制。
2.主要参数
●.平面度≤0.10mm/m²;●.表面密度纹理,完全去除精加工痕迹、外形光滑精度高,粗糙度≤1.6um; ●.固有频率3~6HZ,固体阻尼隔振;●.振幅≤5um;●.台面材料:lCrl3(铁磁不锈钢);台面安装孔:25mm*25mm阵列,M6螺纹孔。
3. 调整和使用●用低纤维软布擦净工作台面,并将标准水平仪轻放工作台中间部位●调整调节环,校正水平,顺时针旋为调低,逆时针旋调高,使水平气泡调整到中间位置●一只手相对固定调节环,另一只手逆时针用力拧紧承压板,锁紧相对高度●工作台面上搁置的任何设备或工具,都必须小心轻放,尽量不要相对摩擦,以避免损伤工作台面,降低 使用精度●工作台面安装孔,是用于固定设备的M6螺孔,使用时避免用力过大,影响工作台精度
| 产品描述 |
|
| 型号 | LC-9200A | LC-9200B | LC-9200C |
| 结构 | 推车式 | 推车式 | 推车式 |
| 显示器 | 液晶显示器分辨率≥1024×768 | ||
| 打印机 | / | 彩色喷墨打印机≥1200dpi | |
| 计算机 | / | CPU Intel系列 core2 Duo,主频不小于2.5GHz,内存不小于2G DDRⅡ800,硬盘(SATA)不小于250G;软件。 | |
| 摄像机 | 1/3英寸CCD,大于520线,80万像素,最低照度0.4Lx | ||
| 阴道显微镜 | 倍率手轮示值:0.4、0.6、1、1.6、2.5、 光学放大:0.8X至5.0X(即对应放大倍率4X至25X) 目镜:宽视野,10×21mm 物镜:完整的消差物镜,标准配备300mm 工作距离:250mm~350mm 观察筒:双目45度斜视观察 筒间距调节:55mm~75mm 观察视野范围:8.8mm~55.0mm | ||
| 光源系统 | 卤素灯、光导纤维导光束,照度不低于2000Lx | ||
| 升降式支架 | 上下升降,左右移动 | ||
| 输入功率 | ≤300VA | ||
| 序号 | 标 准 | 要求 | |||
| 1 | 总放大率误差 | ±7.5% | |||
| 2 | 左右光学系统之间的放大率差 | ≤1.5% | |||
| 3 | 左右光学系统 之间的视场应一致 | 在物镜像平面内垂直方向的偏移量(mm) | ≤0.2 | ||
| 水平方向的偏移量(mm) | ≤0.4 | ||||
| 4 | 左右光学系统之间的焦距差(mm) | ≤1.5×DF | |||
| 5 | 在最高放大率视场中心的分辨力不小于(线对/mm) | 1800×NA | |||
| 6 | 左右视场之间的像倾斜差 | ≤2° | |||
| 7 | 目 镜 | 1)左右光学系统之间出射光瞳高度差(mm) | 置视度刻值在0位≤1.5 | ||
| 2)如使用视度,一个视度刻划的校正误差(m-1) | 零视度指示误差±0.25 | ||||
| 3) 瞳距最小调整范围(mm) | 55~75 | ||||
| 4)视度最小调整范围 | 常用(m-1) | ﹢5~–5 | |||
| 注1:大物镜焦距300时,最大放大倍率NA=0.038mm,视场中心分辨率不小于68.4线对/mm。 | |||||
| 注2:大物镜焦距300时,最高放大率DF=2.398mm,左右光学系统焦距差:≤3.6mm。 | |||||
| 注3:大物镜焦距300时,最低放大倍率DF=8.36mm,左右光学系统焦距差:≤12.54 mm。 | |||||
| 注4:示教镜NA=0.022mm; 副镜和主镜NA相同NA=0.14。 | |||||
光学应用中会涉及到强磁场或对剩余磁性过度灵敏的现象。MPF标准的熔融石英观察窗和专业光学观察窗可以满足这种特殊应用。这种观察窗主要采用316LN不锈钢,CP钛和铝等无磁性材料作为组装材料。
技术参数:
漏率: <2x10(-10) atm cc/sec He
平行度:UV 等级: <30 Arc MinutesDUV 等级: <10 Arc Seconds
法兰材料:304/ 316 LN Stn. Stl.
平面度: DUV: l/4 @ 632nm Transmitted Wavefront
表面抛光度:UV等级: 40/20DUV等级: 20/10
热量范围: -100˚C to 200˚C
材料: Corning HPFS 7980 Fused Silica
应用行业:半导体处理设备、材料处理、高温学、检温学、热成像、光谱仪、YAG激光器、分析和测量设备、准分子激光器
相关产品:石英玻璃观察窗,真空观察窗,蓝宝石观察窗,多层镀膜观察窗,专业光学观察窗
武汉普斯特科技有限公司从2006年创业以来, 公司的技术人员经过原厂培训和市场实践,积累了丰富的专业知识。目前,公司将原单一的基础仪器领域逐步向专业材料物理性能测试、低温真空获得及真空测量等领域发展. 我们是MPF公司、美国安捷伦公司、美国Labtech、英国Wayne Kerr美国Stanford Research Systems授权的一级总代理商。 主营真空泵,离子真空泵、真空分子泵、真空扩散泵、干式真空泵、真空机械泵、罗茨真空泵等。
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深圳市华鑫计量仪器有限公司是深圳市政府依法注册成立,具有独立的法人地位。是计量仪器、仪表检测、计量校准、仪器校准 计量器具 专业技术机构。 华鑫计量校准实验室经中国合格评定国家委会CNAS,编号:CNAS_L2122(范围见附表)本着“公正、科学、、诚信”的质量方针。按照ISO17025国际计量准则要求,因此.所出具的校准证书和检测报告获得与CNAS签署互认多边协议国家地区实验室。机构其它成员的和报告满足ISO/IEC71025和ISO9000族的溯源性要求。具有独立第三方公证地位 承校范围: 长度实验室 .温度实验室. 力学实验室 磁电实验室 光学实验室 无线电实验室 我们的目标:客户满意。 服务周期 市内3-5个工作日 省内4-5工作日 省外5-7个工作日可安排下厂 可安排工程师下厂现场服务 在周边客户安排上门取送仪器服务(免费) 仪器计量检测、销售.维修、体系认证 .第三方审核 ——不仅仅是服务
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WGG2型光学高温计是非接触式测量高温的仪表,当被测量的温度高于热电偶所能使用的范围,以及热电偶不可能装置或不适宜装置的场所,用光学高温计一般可以满足这个要求。

WGG2型光学高温计能在环境温度10~50℃,相对湿度不大于85﹪的情况下连续工作。
| 测量范围℃ | 量程℃ | 允许基本误差℃ | 附 注 | ||
| WGG2-201 | 700~2000 | 700~1500 | 800~<900 | ±33 | 800℃以下仅供参考 |
| 900~1500 | ±22 | ||||
| 1200~2000 | ±30 | ||||
| WGG2-323 | 1200~3200 | 1200~2000 | ±30 ±80 | ||
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光谱反射仪是一种功能强大切且非接触式的薄膜测量方法,膜厚仪器,当薄膜厚度和光学常数在测量系统范围内时,系统能又快又轻松的测量。在用来测量薄膜厚度时,有几种常见的对光谱反射仪的误解。比如: 1. 它只能测量薄膜厚度,且需要预先知道光学常数(折射率和消光系数); 2. 和椭偏仪相比它的精度较低; 3. 只有一到两个厚度可同时测量。 这些误解反映了光谱反射仪这种技术没有被充分利用。其使用方法和数据分析有待进一步的深入。 光谱反射仪和椭偏仪都是间接的测量方法,都需要建立一个模型,通过调整物理参数(厚度和光学常数),使得模型与测量得到的反射率曲线达到拟合度,以此来反推计算薄膜厚度和光学常数。椭偏仪考虑了光的极化,采用P波和S偏振反射光之间的相位差异,然而光谱反射仪不使用相位差,光学膜厚仪,非常薄的薄膜对相位差敏感度很高,但薄膜厚度增加相位差敏感度会减少。事实上,椭偏仪在下列情况下较光谱反射仪有明显优势: 1. 待测薄膜很薄<10纳米 2. 在测量非吸收薄膜时,同步测量T、n(K=0) 3. 直接测量n,k值(主要用于未知材料的基片) 但是光谱反射仪在下列情况下具有明显的优势: 1. 精度要求较高的厚度测量(除很薄的薄膜外)MProbe精度<0.01纳米 2. 测量较厚的薄膜(>10微米)。Mprobe精度达到500微米 3. 更高的测量速度 Mprobe<1毫秒 4. 测量表面粗糙度 这两种技术都可以测量复杂的多层薄膜,计算其厚度和材料的n、k值。 通常人们都使用光谱反射仪,认为它适合简单的厚度测量:一至二层薄膜。下面是一些使用光谱反射仪证明其存在更复杂的应用能力的例子:通常,测量poly-Si多晶硅和SiN(氮化硅)是两个主要应用,导致了椭偏仪和光谱反射仪在半导体工业领域里有着广泛的应用。以传统的使用方法,显然不适合这些应用。因此,说明光谱反射仪的应用是非常有意义的。事实上如果运用得当,测量它们非常成功。现今越来越多的行业里都需要应用膜厚测量仪器,这种仪器的应用可以快速地检测出物件的厚度,从而作出各种判决。当然,这其中使用最广泛的就要数零件制造商。在膜厚测量仪器里,膜厚仪器,根据它的工作原理不同,有着不同的分类,而这些分类各自的特点也是不同。
首先,膜厚仪厂商批发,我们来介绍一种膜厚测量仪,那便是涂层测厚仪。之所以会有这样的一种分类,膜厚仪,那与零件涂层有关,它主要就是用于测量涂层厚度大小,从而确定涂层是否符合标准。它可以准确无误地测量出数值,而且测量的速度也是其它测厚无法比较。这样的一种专业性测量涂层的仪器,应用于其它方便便会显示出它的不足之处。
接着便是第二种膜厚测量仪,纸张测厚仪。对于4mm以下的纸张,我们无法用普通的尺子或者是测量工具进行测量。为了解决这个难题,就出现了纸张测厚仪,它的应用目的就是能够让极薄的纸张在经过它的测量以后得出准确的数值,确保纸张的均一性。像这一类的膜厚测量仪,干膜膜厚仪,反而是不能测量4mm以上的物件,若要执意测量,其所得出的数值只会是不准确。
最后,便是第三种膜厚测量仪,薄膜测量仪。薄膜测量仪的使用,主要的是针对于薄膜、薄片等一类的物件厚度的测量。它的研究最为深入,在技术上也是得到了大力支持,在现今的技术支持下,它可以进行数值的输出、任意位置置零等高级功能的运行。薄膜测厚仪的使用虽然广泛,而且技术也成熟,但要掌握其工作原理,还是有赖于每一个专业的操作人员。工作原理的掌握,对于工作人员熟练故障出现以及避免故障出现方法有极大的帮助。
东莞市嘉仪自动化设备科技有限公司:http://www.canneedauto.com/
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东莞市捷扬光电科技有限公司:http://www.jieyanggd.com/
| 具体型号 | VML/-T250 | VML/-T300 | VML/-T400 |
| (X/Y/Z轴)量测行程(mm) | 250*150*200 | 300*200*200 | 400*300*200 |
| 全机尺寸(mm) | 1000*650*1650 | ||
| 机台底座和立柱材料 | 高精度花岗石 | ||
| 光源材质 | LED冷光源 | ||
| X,Y轴量测精度 | (3+L/200)um | ||
| 放大倍率 | 光学放大率:0.7--4.5X,影像放大率:28--180X | ||
| 光学尺解析度 | 1 um | ||
| 重复性 | 2 um | ||
| 操作方式 | 手动 | ||
| CCD | 3D Family-L,41万像素,彩色 | ||
| 机台承重 | 30Kg | ||