型 号 | GJ- 2010A | DJ- 2010B |
内箱尺寸 | 40 ×40 ×45cm W×D×H | 50 ×50 ×60cm W×D×H |
外箱尺寸 | 60 ×55 ×75cm W×D×H | 70 ×65 ×90cm W×D×H |
温控范围 | 常温~200℃ | |
控制方式 | P.I.D. 自动温度演算 | |
温度解析 | 0.1℃单位显示 | |
控制精度 | ±0.3 ℃ | |
分布精度 | ±1%(1℃) at-room100℃ | |
定 时 器 | 0~9999分钟, 停电记忆型, 蜂鸣器 | |
标准备件 | 棚板2片、观测窗 | |
加热方式 | 热风内循环 | |
安全保护 | 独立EGO超温断电、安全过载开关 | |
制造材质 | 内部SUS#304不锈钢板、外部: 烤漆涂装 | |
电 源 | 1Ø, AC 220V, 50Hz 10A |
烘箱型胶带保持力试验机
又名: 烘箱型胶带保持力试验机、烘箱型持粘力试验机、烘箱型持粘力测试仪
简述: 本机台使用于胶带在高温条件下粘着的静负荷试验,在一定的粘着面积与何重下,测试胶带所能承受的时间,介以评定胶带粘着的持久性.
适合行业:各类胶粘带
技术参数:
A. 温度:常温~200℃
B. 试验治具:10组或20组
C. 法码:1KG或指定
D. 计时器:99999.99小时
E. 机台尺寸:1000*600*1000mm
F. 重量:100KG
安全保护装置: 高温保护装置, 无熔丝过载保护。
保修期:壹年内非人为损坏免费维修,壹年后可签约保修和保养有偿服务
专业技术服务邮箱:hengyu2008sz@163.com
为进一步方便江浙沪一带客户,本公司以迁致苏州市吴中区旺吴路53号,苏州公司设有专业售后服务部、展示厅、标准计量室.提供部分试验机的样品展示和校正。同时我司可订做非标试验机,欢迎来电咨询.恒宇仪器24小时服务电话:13402584090等待您的来电.
ST0736-1 沥青旋转薄膜烘箱
适用范围及方法概要
本产品参照SH/T0736-2003石油行业标准研制而成,标准规定的试验法用以测定热和空气对半固态、沥青膜性能的影响,其结果由比较试验前后沥青性质的变化确定。
主要技术参数
适用标准:SH/T0736-2003
控温方式:数显PID温控仪
控温范围:163℃±0.5℃
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OTS正邦测试仪器(东莞)公司销售烘箱测试机烘箱适用于烘烤有化学性气体及食品加工行业的欲烘烤物品、基板应力的去除、油墨的固化、漆膜的烘干等。广泛使用于电子、电机、通讯、电镀、塑料、五金化工、食品、印刷、制药、PC板、粉体、含浸、喷涂、玻璃、陶瓷、木器建材……等等的精密烘烤、烘干、回火、预热、定型、加工等。
主要参数:
工作室温度范围 室温~250℃特殊可达350-400℃
工作室含尘浓度 ≥0.5UM尘粒≤3.5颗/升
工作室内净尺寸 宽650×高620×深430(MM)
外开尺寸 宽790×高1400×深915(MM)
电源 380V 50hz
功耗 4KW,风机功率 180W
控温精度 ±1℃
1.真空环境大大降低了需要驱逐的液体的沸点,所以真空干燥箱可以轻松应用于热敏性物质。
2.对于不容易干燥的样品,例如粉末或其他颗粒状样品,使用真空干燥法可以缩短干燥时间。
3.各种构造复杂的机械部件或其他多孔样品经过清洗后使用真空干燥法,干燥后不留任何参与物质。
4.使用更安全--在真空或惰性条件下,消除氧化物遇热爆炸的可能。
5.与依靠空气循环的普通干燥相比,粉末状样品不会被流动空气吹动或移动。
OTS正邦测试仪器(东莞)公司成立至今,一直于研发制造烘箱、电炉、高低温试验箱、电热恒温鼓风干燥箱、工业烤箱、印制板烘箱、洁净烘箱、高温烘箱、充氮烘箱、光电元件干燥箱、电焊条烘干箱、电力电容器烘干箱、台车烘箱、电热密闭烘箱.本厂汇集了一批高层次.高素质的专业人才,采用的管理经验,建立了完整的质量体系。公司技术力量雄厚、工艺装备、制造经验丰富、产品质量、售后服务周到,拥有专业的生产和管理人员,的产品试验设备,检测仪器和加工设备。并具有丰富的设计制造经验和完善的售后服务体系,多年深受用户信赖。
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上海松安制冷技术有限公司 刘先生 销售工程部经理 地址: 上海市中山北路311号 邮编: 200070
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本公司是一家集研发,生产,销售,服务为一体的高新技术企业.致力于客户提供科技优质产品.产品性能的可靠性,安全性等各项指标均达到行业规定的一流标准,继而被各界合作单位认同知名企业.电话:/31314396
【林频】是台式烘箱的专业生产厂家,公司同时还生产各种标准及非标的环境试验设备!产品广泛应用于航空航天、大专院校、质检科研单位、汽摩行业、电子电工、通迅设备、电镀涂层、汽车饰件等众多领域。获得广大新老客户高度赞扬!
以下是关于"台式烘箱"的相关资料,请参考:
型号:DHG-9023A 工作室尺寸:340×325×300 外型尺寸:620×540×490 功率:870W型号:DHG-9030A 工作室尺寸:340×320×320 外型尺寸:620×538×490 功率:870W型号:DHG-9053A 工作室尺寸:420×395×350 外型尺寸:700×610×520 功率:1120W型号:DHG-9070A 工作室尺寸:450×400×450 外型尺寸:740×618×630 功率:1570W型号:DHG-9140A 工作室尺寸:550×450×550 外型尺寸:840×670×730 功率:2070W型号:DHG-9240A 工作室尺寸:600×500×750 外型尺寸:880×720×930 功率:2470W
一、技术指标1、温度范围:RT+10℃~250℃/RT+10℃~300℃2、控制精度:±1%(满量程)3、恒温波动度:±1℃4、温度分辨率:0.1℃5、升温速率:2.0~8.0℃/min6、温度定时范围:1-9999M7、载物托盘:2(PCS)8、电源要求:AC220V 50Hz
二、箱体结构1、试验箱设计完美,箱体采用数控机床加工成型,操作容易;2、设有双层玻璃观察窗,供观察工作室状况之用;3、内胆为优质镜面不锈钢板,外壳为A3板喷塑处理,更显光洁、美观;4、电路系统侧采用门式开启,方便维护和检修;5、送风循环系统采用低噪音、长寿命、空调型美国进口风机,风轮为多翼式离心风叶。热风循环系统由能在高温下连续运转的风机和合适的风道组成。工作室内温度均匀。
三、控温系统温度控制器采用触摸按键、数显LED显示、P.I.D智能控制仪表;精度:0.1℃(显示范围);解析度:±0.1℃;感温传感器:PT100铂电阻测试器;控制方式:热平衡调温方式。
四、保温系统保温系统采用超细玻璃纤维填充保温区,内外胆连接部位采用非金属耐高温材料,有效降低高温度传导。
1、供 货 期: 收到预付款后3个工作日内发货;2、付款方式: 面议或电询;3、送货方式:通过汽运或托运免费送货上门;4、售后服务:保修壹年,终生维护,每半年一次不定期保养。
主营产品:盐雾试验箱/二氧化硫试验箱/高低温试验箱/高温试验箱/低温试验箱/温度冲击试验箱/恒温恒湿试验箱/紫外耐候试验箱/氙灯试验箱/换气式老化试验箱/砂尘试验箱/箱式淋雨试验箱/摆管淋雨试验装置/滴水试验装置/臭氧老化试验箱/霉菌试验箱/盐雾试验室/ 高低温试验室/振动试验台/防锈油脂湿热试验箱/精密干燥试验箱/高温箱/真空烘箱/大型步入式试验箱/药品稳定性试验箱/台式氙灯老化试验箱/盐雾恒温恒湿高温试验箱/温度老化室/盐雾试验箱/高低温试验箱/恒温恒湿试验箱/温湿度振动试验箱
HMDS预处理系统
在半导体生产工艺中,光刻是至关重要的一个工艺环节,而涂胶工艺的好坏,直接影响到光刻的质量,所以涂胶也显得尤为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节有一点纰漏,都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中,所用到的光刻胶绝大多数是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的话,势必会造成光刻胶和晶片的粘合性较差,甚至造成局部的间隙或气泡,涂胶厚度和均匀性都受到了影响,从而影响了光刻效果和显影。
为了解决这一问题,涂胶工艺中引入了一种化学制剂,即HMDS,它的英文全名叫Hexamethyldisilazane(HMDS),化学名称叫六甲基二硅氮甲烷,把它涂到硅片表面后,通过加温可反应生成以硅氧烷为主题的化合物,这实际上是一种表面活性剂,它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起到耦合的作用,再者,在显影的过程中,由于它增强了光刻胶与基底的粘附力,从而有效地抑制刻蚀液进入掩模与基底的侧向刻蚀。 最初,人们用液态的HMDS直接涂到晶片上,然后借着晶片的高速旋转在晶片表面形成一层HMDS膜。这样就阶段性的解决了基片和光刻胶之间的结合问题,但随着光刻线条的越来越细,胶的越来越薄,对粘附力提出了更高的要求,于是我们研制出了现在的HMDS预处理系统。
2 HMDS预处理系统的优越性
HMDS预处理系统的优点在于:
(1)预处理性能更好,由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。
(2)处理更加均匀。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。
(3)效率高。液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达多盒的晶片。
(4)更加节省药液。实践证明,用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理多盒晶片所用药液还多;
(5)更加环保和安全,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。
3系统结构
整个系统由加热、真空系统、充氮、加药和控制模块等5部分组成。
3.1加热模块
由于工艺的整个过程都需要在150℃左右的环境下进行,所以自始至终加热系统都在工作。
本系统采用在腔体外侧加热,采用人工智能PID调节仪实现闭环控制,调节仪控制固态继电器的输出,从而实现温度的精确稳定控制,测温采用通用的高精度热敏电阻Pt100。
3.2真空模块
由机械泵、真空组件、真空测量等组成,主要作用是置换气体和抽走剩余的HMDS蒸汽,不再赘述。
3.3充氮模块
作用是在置换过程中,用氮气来逐渐稀释空气或药液蒸汽,从而最终替换空气或药液蒸汽的气氛。
主要由氮气源、控制阀和喷头组成。
3.4加药模块
加药模块的作用是在需要的时候把药液变成蒸汽,均匀的涂布到晶片表面。
它主要由药液瓶,接口、控制阀和喷头组成。
3.5控制模块
控制模块是本系统的核心模块,它的作用是控制各个模块的动作和时序,完成整个工艺过程。
它主要由人机界面,CPU控制中心,控制接口和输出部件,报警等5部分组成。
人机界面采用台湾威纶通触摸屏来实现参数、状态等界面的显示和参数的设定输入。PLC采用三凌FX系列小型化PLC。
4软件组成
整个控制软件共分4个部分,即自动运行、手动控制、参数设定、帮助。
当按下自动运行键后,画面转换到运行画面,显示当前的工艺状态,运行时间等,同时系统开始运行。
首先打开真空泵、开始抽真空、待腔内真空度达到某高真空度(该值可预设)后,开始充入氮气,充到达到某低真空度(该值也可预设)后的再次重复抽真空、充入氮气的过程,达到设定的充入氮气的次数后再次抽真空,然后充入药液,达到设定时间后,停止充入药液,进入保持阶段。当到达设定的保持时间后,再次开始抽真空、充入氮气,次数为设定值,当系统自动工作完成后,画面切换到结束画面,同时给出声光报警等待取片,在自动工作过程中若出现异常可点击运行画面中的停止键,随时终止程序的运行。5、 HMDS-90真空系统规格参数
内部尺寸:450X450X450
电源: AC220V,功率:3000W
真空度: 常压到—133pa或1TORR以下
材质: 内部SUS316电解处理 外壳SS41静电喷涂。
管路: SUS洁净管
层架; SUS316材质
门内板: 钢化玻璃
流程控制:液晶触摸屏(台湾威纶通)、PLC控制(三菱),流程可编辑,可以预存5组程序。(可根客户要求可以更改流程)
加热方式:腔体外侧加温。 温度:RT+10℃~ 200℃;微电脑温度控制器,控温
精确可靠。控温精度:1℃,真空室温度均匀
氮气装置:氮气进入箱内有调压装置,控制有自动阀完成。
HMDS装置:HMDS药液进入箱内采用压力差吸取瓶内HMDS方式,自动阀控制
真空泵:抽气速度4升\秒
工作流程:
首先打开真空泵、开始抽真空、待腔内真空度达到某高真空度(该值可预设)后,开始充入氮气,充到达到某低真空度(该值也可预设)后的再次重复抽真空、充入氮气的过程,达到设定的充入氮气的次数后再次抽真空,然后充入药液,达到设定时间后,停止充入药液,进入保持阶段。当到达设定的保持时间后,再次开始抽真空、充入氮气,次数为设定值,当系统自动工作完成后,画面切换到结束画面,同时给出声光报警等待取片,在自动工作过程中若出现异常可点击运行画面中的停止键,随时终止程序的运行。