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CD1000等离子清洗机－－Europlasma nv

CD1000型等离子表面处理机是用于较大尺寸消费类电子产品的表面处理和改性的专业设备。可根据客户需要选择上料装置。

反应舱（大型）：

舱体尺寸：1000×700×700 mm

材料：铝壁厚：

3cm

容积：

490 升舱门：装有可视窗口

架子: 7个（尺寸可耕具客户要求订制）

主要应用于以下领域：

金属：等离子处理是一种环境友好型处理模式，代替了传统的三氯化物化学处理方式。汽车制造：用于汽车制造过程中的塑料和喷漆前处理。纺织品生产：用于纺织品、滤网和薄膜的亲水性、疏水性和表面改性处理。医疗：用于玻璃导管、注射器和各种阀门的胶合前处理。航空航天：绝缘材料（泡沫）、电子

该公司产品分类：水质分析仪/多参数水质分析仪其它基础仪表其它测量/计量仪器生物显微镜激光拉曼光谱(RAMAN) 表面阻抗蠕动泵电化学工作站、恒电位仪液体处理工作站(移液工作站) 在线测厚仪生物芯片、芯片扫描仪、芯片点样仪、芯片检测仪微波、电、磁学量的测量仪表微流控芯片等离子体表面处理仪椭偏仪锁相放大器其它动物实验仪器白光干涉测厚仪扫描探针显微镜SPM（原子力显微镜AFM、扫描隧道显微镜STM）紫外、紫外分光光度计、紫外可见分光光度计、UV

等离子清洗机(低温等离子表面改性设备)

等离子清洗机,又名低温等离子表面改性设备,辉光放电电晕处理机,广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。汽车灯座和灯罩胶结前的处理pp化妆品包装盒的印前处理聚氨酯橡胶印前处理玻璃瓶（丙稀酸树脂）喷涂作色前的等离子处理各种箱包的印前或胶结前的表面处理（尼龙）保玲球表面喷涂或印刷前的表面处理复合树脂镜片的胶结面处理隐形眼镜的表面亲水处理各种树脂、塑料、橡胶、玻璃等板材的表面处理各种塑料（密胺）餐具印刷前的表面处理酶标板、细菌计数培养皿、细胞培养皿、组织培养皿的亲水处理。经过等离子体处理后细菌培养皿表面由疏水变为亲水,并获得支持细胞黏附铺展的能力.并适用于细胞培养。等离子表面处理的效果可以简单地用滴水来验证，处理过的样品表面被水润湿。

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QT-80-PSP等离子清洗机

主要应用于LCD、LED、连接器、键合前等大规模生产领域。

2.所有元器件及核心部件采用进口，了整机的稳定性和使用寿命。

3.真空泵采用进口旋片泵，是适用于等离子工艺环境使用的可长时间工作的体系，

在抗氧化、耐腐等诸多方面积累了丰富的经验，使泵的寿命大大提高，并降

低了泵的维护成本，泵的各项保护措施完善，提高了长时间工作极限，泵油为耐

高温、抗氧化油，泵具有可自行缓解温度过高的散热体系，无需水冷。泵体内置

于机柜内部，使机器紧凑，占地面积小。

4.自动控制系统采用PLC加触摸屏控制，所有工艺参数、工艺过程实时监控，并显

示运行状态、报警记录和工艺曲线记录、工作时间纪录，适合维护，可以提供工

艺参考。

5.可存储50组工艺配方，随意调用。

6.清洗时间、洁净压力、射频功率、工艺气体流量、设定可调。

7.工艺参数受密码保护，分级密码管理查询。

8.一键完成全自动工艺，实时故障报警、非法操作提示、清洗结束提示等。

9.自动提醒系统维护、更换真空泵油等，避免机器过载、过老化情形下工作，延

长使用寿命。

10.气体质量流量计采用美国进口，由模拟量输入输出，量程为0～200sccm可在量

程范围内无级调节，根据特殊的工艺要求可用PLC对质量流量计进行PID调节而实

现真空度的控制。

11.根据特殊的工艺要求可使用干泵，尾气处理设备，油过滤器，过滤返油装置等,

电极结构（专利申请中）的高等离子通量设计能很好地提高等离子体的均匀性

及稳定性。

中型等离子处理机主要技术数据及规格

标准型号

技术配置

QT-48-PSP

QT-80-PSP

QT-120-PSP

外形尺寸（WHD）

900mm×1500mm×1000mm

900mm×1600mm×1000mm

反应仓尺寸

W400mm×H300mm×D400mm

W450mm×H400mm×D450mm

W450mm×H600mm×D450mm

真空腔体材质

不锈钢加铝内衬

电极板面积

320mm×280mm×4

360mm×340mm×5

360mm×340mm×6

等离子电源

美国进口

电源功率

0～600W

0～1000W

电源频率

13.56MHz

13.56MHz/40kHz

极限真空度

2 Pa

3Pa

PLC控制系统

西门子PLC 模拟量控制实现所有信号数据集成

人机界面

5.7英寸触摸屏

7.1英寸触摸屏

10.4英寸触摸屏

MFC

美国进口质量流量计（MFC）控制精度达1sccm

工艺气体流量

0～100sccm

0～200sccm

电磁阀

日本进口、超长时间低温工作

工作压强

10-130Pa

不锈钢气体管路

内外高精度抛光，气阻小，流量可高达100L/min。

单次处理时间

10-15分钟

真空泵系统

德国

德国/日本

参数功能

配方控制，处理时间、射频功率、气体流量设定可调

所需环境配置

电：AC380V/50Hz 3P，5W RE

15 A

20 A

25 A

供气管路

0.2至0.6MPa，管径φ6

环境

28℃良好换气通风

湿度

30%～85%

选配功能

腔体及电极

可据客户要求设计

电源功率

500-2000w之间选配

质量流量计

流量量程及路数可增减

干泵

可据客户要求配置

尾气处理器

可选配

过滤返油装置

可选配

油泵低液位报警

可选配

GV10x电镜等离子清洗器，透射电镜，扫描电镜（TEM/STM）专用等离子清洗机

GV10x电镜等离子清洗器

GV10x 是由ibss Group和一个拥有专利的等离子源的发明者共同合作开发并生产的新一代专门清洗腔体的等离子清洗系统。GV10x可以在分子泵工作的真空压力状态下运行，它比以往传统方法更加有效的（10到20倍）去除碳和碳氢污染。它能够去除扫描电子显微镜(SEM)图像中的假象; 使电子显微镜长久的保持高分辨率和束流稳定性。不但能够消除扫描电子显微镜图像中的黑色扫描方框，针对聚焦离子束(FIB)和透射电子显微镜(TEM)中的碳污染同样能得到很好的控制效果。

GV10x (KF40 version)

GV10x等离子清洗器是应用于真空腔体中的原位清洗机的一个全新典范。凭借精妙的顺流工艺，GV10x等离子清洗器比第一代方法更加有效和均匀10到20倍地去除碳和碳氢污染。分子泵也可以安全地运行，而不需要中断SEM, FIB或TEM系统的软件控制。

通常GV10x等离子体清洗器使用空气或氧气产生氧的自由基来去除碳氢污染。此外，NIST （美国国家标准技术研究所）研究表明，在GV10x等离子体清洗器中运用氢气去除沉积在多层镜面和其它衬底以及氧化敏感的样品上的碳沉积方面是安全和有效的。

GV10x等离子体清洗器可以很容易地在几个不同的实验室仪器中搬迁。每个腔的清洁周期不同。与普通的等离子清洗机不同的是: 等离子体清洗工艺(经常被称为远程等离子处理)并不会产生动力冲击、溅射损伤或者对样品加热。

GV10x等离子体清洗器能迅速地清洁扫描电子显微镜腔内的样品，允许快速的假象清除，通常仅需几分钟的时间，而不需给电镜腔体放气。

ibss Group的Gentle Asher和GV10x及泵的组合拓展了等离子体清洗技术的应用，即将样品和TEM样品支撑杆在插入到电镜前进行预清洗，从而延长了电镜清洗的周期。

GV10x等离子体清洗器是一个全新的清洁腔体的典型技术。这个工艺具有更大的清洁均匀性，可以更加迅速地清除位于真空腔远角落表面上的碳污染。这些污染能不断的吸附和重新污染腔体其它部分。由于较大的功率和压力选择范围，GV10x等离子体清洗器可以被运用到除了SEM腔体之外的清洗，比如清洗同步辐射和紫外光学，临界尺寸扫描电镜 (CDSEMs)，检测性扫描电镜和X-射线光电子能谱系统，这些系统的大型腔体都需要均匀和快速的清洁。

GV10x等离子清洗器参数：

功率： 5 ~99 W 连续可调等离子功率

压力： - 2 Torr ~ <5 mTorr (measured at the Source)

压力（大于50 毫托），清洗气体的平均自由程很短，在靠近等离子源的区域去除污染。
压力（小于50 毫托），清洗气体的平均自由程比较长，能均匀的碳污染的清除。同时，清洗发生在分子泵能安全运行的压力下。

柔和：使用中性氧或氢的自由基通过非动力学过程，灰化气相的碳氢化合物和表面碳。

Gentle Asher™, GA/GV

ibss group引进电镜样品预处理腔，拓展了GV10x的应用，用以清洁送入电子显微镜腔前的样品。连接了GV10x 的预处理腔体, GA/GV, 可以极大地防止黑色扫描方框的生成。

在将电镜腔清洁到可接受的碳氢污染水平后，可以使用等离子体工艺，通过简单地将GV10x源移动到预处理腔的腔体中，达到样品清洁和储存的目的。客户的报告声称这种有效的结合以更少的损伤巧妙地去除TEM样品台和任何类型样品的污染，同时保持CDSEM、 SEM、FIB 和TEM中碳氢污染水平的易控制性。预清洁样品和样品台避免了污染电镜腔体，这样就延长了电镜清洗的周期。

该公司产品分类：玻璃碳产品大气等离子清洗机电磁系统定制坩埚耗材配件纳米压痕仪（划痕仪）台阶仪/轮廓仪表面等离子共振仪SPR 电镜腔体等离子清洗系统真空等离子表面处理系统 TEM硅框架 TEM无膜硅窗口 TEM纯硅薄膜窗口 TEM氧化硅窗口 TEM亲水性/疏水性氮化硅薄膜窗口 TEM多孔氮化硅薄膜窗口 TEM氮化硅薄膜窗口 X射线用氧化硅薄膜窗口 X射线用氮化硅薄膜窗口 X射线用薄膜窗口

PDC200福建雅马拓等离子清洗机，厦门进口等离子清洗机厂家，等离子清洗机原理

主要特点：

1、RIE模式标配（DP切换为选购）；2、等离子的均应性高操作简单的液晶触摸屏控制面；用途：1、CSB/BGA/COB基板的等离子处理；2、有机膜和金属氧化膜的除去；3、电路基板的干洗；4、活性处理。

技术参数：

型号	PDC200	PDC210	PDC510
模式	RIE模式（DP选配）	DP模式	DP/RIE切换方式
电极构造	平行平板电极（固定）
高频输出功率	MAX300W	Max 500W
频率	13.56MHz
控制方式	自动联动，液晶触摸屏控制
反应室尺寸	400×250×150mm		500×300×200
电极尺寸	250×170mm		400×200mm
反应室材质	一次性一体成型铝腔（防腐蚀，可对应CF₄）
反应气体	2系统（Ar/O₂）
填充气体	N2/洁净干燥空气
反应气体流量控制	流量计	聚合控制器
真空泵	另行选配	油回旋真空泵（排气量345L/min）	油回旋真空泵（排气量500L/min）
气体导入口	反应气体2套，填充气体1套
外型尺寸	540×600×600mm	540×600×600mm	700×700×700mm
电源	单相AC100V 15A 50/60Hz	三相AC100V 15A 50/60Hz

该公司产品分类：仪器耗材行业专用仪器洁净室专用检测仪器薄层色谱制备液相离子色谱液相色谱气相色谱紫外|可见分光光度计红外光谱原子荧光光谱原子吸收光谱光谱类仪器色谱类仪器环保监测洁净厂房工程实验室气路|通风工程实验室家具工程实验室系统工程色度|浊度|阿贝折射仪

CY-P2L-A成越2L小型台式等离子清洗机

该小型台式等离子清洗机由等离子电源、真空系统、供气气系统、自动控制系统五部分组成。其工作原理是为：在真空状态下，等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作室进行抽真空达到30-40pa 的真空度，再在高频发生器作用下，将气体进行电离，形成等离子体（物质第四态），其显著的特点是高均匀性辉光放电，根据不同气体发出从蓝色到深紫色的彩色可见光，材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用，得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

等离子处理优点：1.环保技术：等离子体作用过程是气- 固相干式反应 ,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。2.广适性：不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很好地处理；3.温度低：接近常温，特别适于高分子材料，比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。4.功能强：仅涉及高分子材料浅表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种新的功能；5.低成本：装置简单，易操作维修，可连续运行，往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成本会大大低于湿法清洗。 6. 全过程可控工艺：所有参数可由电脑设置和数据记录，进行工艺质量控制。7. 处理物几何形状无限制：大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理。小型台式等离子清洗机主要技术参数:

*产品型号	CY-P2L-A
*供电电源：	AC220V
*工作电流：	整机工作电流不大于1.2A(不含真空泵)
*射频电源功率：	200W
*射频频率：	40KHZ（偏移量小于0.2KHz）
*频率偏移量：	小于0.2KHz
*特性阻抗：	50欧姆，自动匹配
*真空度：	30Pa—100Pa
*气体流量：	10—100ml/min(可调)
*过程控制：	MCU自动与手动方式

清洗时间：	1-6000秒钟可调
功率大小	10%-100%可调
内腔尺寸	100mm×270mm
*外形尺寸：	440390200mm
*重量：	25Kg
*真空泵：	100Pa
*真空室温度：	小于65°C
*冷却方式：	强制风冷

该公司产品分类：高温电炉 CY/成越

PDC-MG等离子清洗机

产品介绍：

PDC-MG 等离子清洗机配备有各种数字式仪表，能更加精确的记录各个实验参数。该款设备操作更为简便，只需要一个开关键即可对整个清洗过程进行控制。该型号等离子清洗机具备更为高的射频功率，使得等离子清洗的应用面更为宽广，除普通的清洗功能外，还具备表面改性、键和、浅刻蚀等功能。通过国家辐射环境管理监测站检验，符合国家相关产品标准要求。

技术参数：

整机规格	500×300×300（长×宽×高）mm
整机重量	35 Kg
清洗舱规格	Φ165×L210 mm (耐热玻璃)
清洗舱有效容积	4.5 L
输入电源	220 V／50 Hz
整机输入功率	400 W
射频输出	0～150 W（连续可调）
射频频率	13.56 MHz
数字式定时器范围	0～99.99 min
极限真空度	1.3×102 Pa
数字式真空计及量程	1.0×102～9.9×105 Pa
数字式电流表和数字式电压表	方便判断设备工作中的功率大小
气体流量计及量程	0.2～1.5 L／min 浮子流量计二支，方便二种不同气体按比例混合
配件	VRD-8 型单相真空泵、耐热玻璃托盘一个

PDC-MG 型等离子清洗机配套的VRD-8 型单相真空泵图片：

微流控芯片|微流控芯片批量加工

（全部图片以实物为准）

VRD-8 真空泵技术参数：

产地	中国·浙江
抽气速度	2.2 L/S
极限真空	5x10-2
水蒸汽容量	360g/h
噪音	56A
工作环境温度	10-40℃
电机相数	单相
电机电压	220V
电机功率	0.37KW
电机转速	1440 r/min
重量	16.2kg
用油量	0.5L
真空系统配件	管卡3 个、真空橡皮软管（直径12 mm、长度2 m） 1 根、硅橡胶管（直径6 mm、长度2 m） 1 根、真空泵进气口转接头1 个、生料带1 卷、改刀1 把、尼龙扎扣3 个

该真空泵为出口型真空泵，其性能远远高于其它国产真空泵。

该公司产品分类：微反应器及系统配件耗材仪器设备微流控芯片

Yamato 等离子清洗机

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PT-2S生物纳米材料等离子清洗机大学实验室等离子清洗机

PT-2S真空等离子清洗机，它是利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，气体等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵彻底抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。等离子清洗机现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。

国产等离子清洗机是在国外等离子清洗机价格贵，难以推广等缺点的基础上，吸取了现有国内外等离子清洗机的优点，结合国内用户的使用需求，采用先进科技手段开发出的新型系列等离子清洗机。该产品除拥有其它等离子清洗器的优点外，更具有性能稳定、性价比高、清洗效率高、操作简便、使用成本极低、易于维护的优点。产品能适应不同用户对设备的特殊要求。清洗舱的材料有耐热玻璃和不锈钢可选择，不锈钢类清洗舱有圆形和方形可选择。。

功能：

对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物（如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗。

改变某些材料表面的性能。

使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。

清除金属材料表面的氧化层。

对被清洗物进行消毒、杀菌。

优点

具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。

对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。

完全彻底地清除样品表面的有机污染物。

定时处理、快速处理、清洗效率高。

绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。

在常温条件下进行超清洗，对样品非破坏性处理。

应用领域

光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。

清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。

清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。

清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。

高分子材料表面的修饰。

封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。

改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。

涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。

牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。

医用领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性。对医疗器械的消毒和杀菌。

等离子清洗机型号

• PT-2S型是单路气体输入，不锈钢舱体：Φ100mm×270mm

• 容量：2升

*供电电源： AC220V

*工作电流：整机工作电流不大于1.2A(不含真空泵)

*射频电源功率： 200W

*射频频率： 40KHZ（偏移量小于0.2KHz）

*频率偏移量：小于0.2KHz

*特性阻抗： 50欧姆，自动匹配

*真空度： 10Pa—1000Pa

*气体流量： 60—600ml/min(可调)

*过程控制： MCU自动与手动方式

清洗时间： 1-100分钟可调

功率大小 10%-100%可调

*外形尺寸： PT-2S型_400x450x250

*重量： 36.5Kg

*真空泵：

*真空室温度：小于65°C

*冷却方式：强制风冷

深圳三和波达机电科技有限公司

-专攻研究院大学工厂等离子清洗装置

地址：深圳龙华大浪石观工业区鸿德工业园C栋3楼

电话：闻先生 13510901650

座机：

传真：

QQ:2850868930 邮箱2850868930@qq.com

该公司产品分类：等离子清洗机

CIF-TEM透射电镜样品杆清洗机

CIF透射电镜样品杆清洗机

CIF透射电镜（TEM）样品杆清洗机采用双等离子清洗源设计，自动切换，一机多用，清洗快速高效。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于TEM透射电镜样品杆的等离子体清洗和真空检漏用途。

产品特点

u 双等离子清洗源

u 一机多用

u 快速高效低损伤

技术参数

产品型号	CIF-TEM
真空泵	Agilent 、IDP-3涡轮式真空干泵
	最大入口压力1.0个大气压（0psig），最大出口压力1.4个大气压（6.5psig）
	最高抽速60L/min，极限真空3.3 x 10^-1 mbar
	KF16入口接口
等离子电源	13.56MHz等离子射频电源，射频功率5-100W可调
等离子电源	两种等离子体清洗源，原位等离子源和远程等离子源，自动匹配器
清洗室	清洗室尺寸(长X宽X高)150X150X150mm
清洗数量	可同时清洗3支TEM样品杆
适配品牌	THERMO FISHER（FEI）、日立HITACHI、捷欧路JEOL
气体控制	标配双路50毫升/分气体质量流量控制器（MFC），精确测量自动控制气体流量，不会受环境温度和压力变化影响
气源选择	根据需求氧气、氩气、氮气、氢气等多种清洗气源选择
真空控制	美国MKS公司925-12010皮拉尼真空计，测量范围1E-5Torr
真空保证	真空计和电磁阀安全互锁
操控方式	7寸全彩触摸屏控制，中英文互动操作界面
电源	220V，50/60Hz，300W
质量保证	二年质保，终身维护

该公司产品分类： CIF无机样品前处理仪器 CIF材料表面处理仪器水质分析仪/多参数水质分析仪德国SPS-EUROPE公司匀胶机英国Ossila公司美国Novascan公司美国bioforce公司德国MAASSEN 公司高压消解罐 PTFE消解罐 PTFE、TFM微波消解罐定制 PFA消解罐 PFA消解管 PFA溶样瓶 CIF实验室耗材 CIF智能消解仪 CIF真空赶酸系统 CIF亚沸酸蒸清洗器 CIF亚沸酸纯化器 CIF土壤有机碳消解仪